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J-GLOBAL ID：200903023633803108

高分子薄膜、パターン基板、磁気記録用パターン媒体及びこれらの製造方法

Inventor： 長谷川 博一 ,  竹中 幹人 ,  陳 楓 ,  吉田 博史
Applicant, Patent owner： 国立大学法人京都大学 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 磯野 道造
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007072344
Publication number (International publication number)：2008231233
Application date： Mar. 20, 2007
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：

【課題】柱状相(柱状ミクロドメイン)が膜の貫通方向に配向し連続相中に分布するミクロ相分離構造を有する高分子薄膜及びその製造方法に関し、広範囲で規則配列パターンを有する高分子薄膜を提供する。【解決手段】連続相と、この連続相を貫通する方向に配向し分布する柱状相と、を備える高分子薄膜において、連続相の成分であるブロック鎖、及び柱状相の成分であるブロック鎖を少なくとも有する第1高分子ブロック共重合体と、連続相の成分であるブロック鎖、及び柱状相の成分であるブロック鎖を少なくとも有し重合度が前記第1高分子ブロック共重合体と異なる第2高分子ブロック共重合体と、が少なくとも配合され、高分子薄膜の膜厚をLとし、隣接する前記柱状相の平均中心間距離をrとした場合、このLとrとが所定の関係式を満たしている。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

連続相中に柱状相が分布している高分子薄膜において、 前記柱状相が前記高分子薄膜を貫通する方向に配向するとともに略規則的に配列してなり、 前記連続相の成分であるモノマーa1が重合してなるブロック鎖A1、及び前記柱状相の成分であるモノマーb1が重合してなるブロック鎖B1を少なくとも有する第1高分子ブロック共重合体と、 前記連続相の成分であるモノマーa2が重合してなるブロック鎖A2、及び前記柱状相の成分であるモノマーb2が重合してなるブロック鎖B2を少なくとも有し重合度が前記第1高分子ブロック共重合体と異なる第2高分子ブロック共重合体と、が少なくとも配合され、 前記高分子薄膜の膜厚をLとし、隣接する前記柱状相の平均中心間距離をrとした場合、次式の関係を満たしていることを特徴とする高分子薄膜。

IPC (5)：

C08J 5/18 ,  C08L 53/00 ,  B32B 27/00 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/82

FI (5)：

C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  B32B27/00 Z ,  G11B5/65 ,  G11B5/82

F-Term (32)：

4F071AA22X ,  4F071AA33X ,  4F071AA75 ,  4F071AF53 ,  4F071AG28 ,  4F071AH12 ,  4F071AH14 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC12 ,  4F100AB11 ,  4F100AK01A ,  4F100AK12A ,  4F100AK25A ,  4F100AL02A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100EH46 ,  4F100EJ15 ,  4F100GB41 ,  4F100JA07 ,  4F100JM02A ,  4J002BP011 ,  4J002BP012 ,  4J002BP031 ,  4J002BP032 ,  4J002CH051 ,  4J002CH052 ,  4J002CP171 ,  4J002CP172 ,  4J002GS00 ,  5D006BB07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 三次元共連続ミクロ相分離構造を持つ多成分多相系高分子材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-093140   Applicant：新技術事業団

Cited by examiner (8)

• 微細構造体、パターン媒体、及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-142247   Applicant：国立大学法人京都大学, 株式会社日立製作所
• 液体吐出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-325357   Applicant：ソニー株式会社
• ブロック共重合体組成物及びその熱収縮フィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-263687   Applicant：電気化学工業株式会社
• パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-169263   Applicant：株式会社東芝
• 有機薄膜とその製造方法及びそれを用いた光記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-346588   Applicant：株式会社リコー
• 半導体発光装置及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-201980   Applicant：株式会社東芝
• 細孔構造体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-317681   Applicant：キヤノン株式会社
• 三次元共連続ミクロ相分離構造を持つ多成分多相系高分子材料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-093140   Applicant：新技術事業団