感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001077042
Publication number (International publication number)：2002278073
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Sep. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】特定のポリシロキサンを含有し、波長193nm以下の放射線に対する透明性が高く、ドライエッチング耐性、感度、解像度、現像性等に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(イ)下記一般式(1)に示す構造単位(I)あるいは構造単位(II)および下記一般式(2)に示す構造単位(III)あるいは構造単位(IV) からなる群の少なくとも1種を有し、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(ロ)感放射線性酸発生剤を含有する。【化1】【化2】〔各式中、各Rは水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、1価の(ハロゲン化)炭化水素基、ハロゲン原子またはアミノ基を示し、X1 およびX2 は酸により解離して水素原子を生じる1価の有機基または水素原子(但し、X1 の場合を除く。)を示し、R''は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、mおよびnは0〜3の整数である。〕

Claim (excerpt)：

(イ)下記一般式(1)に示す構造単位(I)あるいは構造単位(II)および下記一般式(2)に示す構造単位(III)あるいは構造単位(IV) からなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性のポリシロキサンであって、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(ロ)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、X1 は酸により解離して水素原子を生じる1価の有機基を示し、mは0〜3の整数である。但し、一般式(1)中の各ケイ素原子は最上位にあるビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環の2-位または3-位に結合している。〕【化2】〔一般式(2)において、各Rは相互に独立して水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基、炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基、ハロゲン原子または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、R''は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、X2は水素原子または酸により解離して水素原子を生じる1価の有機基を示し、nは0〜3の整数である。但し、一般式(2)中の各ケイ素原子は最上位にあるビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環の2-位または3-位に結合している。〕

IPC (5)：

G03F 7/075 511 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/075 511 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J002CP051 , 4J002CP071 , 4J002CP081 , 4J002CP091 , 4J002CP101 , 4J002CP151 , 4J002CP161 , 4J002EB116 , 4J002EB126 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002EV306 , 4J002FD206 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-227633 Applicant：信越化学工業株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-070217 Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
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