高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001070196
Publication number (International publication number)：2002268225
Application date： Mar. 13, 2001
Publication date： Sep. 18, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物。(式中、Aは2価の有機基であり、このAの両端でそれぞれ結合する炭素原子と共に、有橋環式であってもよく、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4〜20の環状の炭化水素基を形成する。R1、R2、R3は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のフッ素化されたアルキル基を示し、R1、R2、R3の内の少なくとも一つはフッ素原子含む。R4は酸不安定基である。)【効果】本レジスト材料は、高エネルギー線に感応し、200nm以下、特には170nm以下の波長における感度、解像性、及びプラズマエッチング耐性に優れている。従って、これらの特性より、特にF2エキシマレーザーの露光波長での吸収が小さいレジスト材料となり得るもので、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容易に形成できる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物。【化1】(式中、Aは2価の有機基であり、このAの両端でそれぞれ結合する炭素原子と共に、有橋環式であってもよく、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数4〜20の環状の炭化水素基を形成する。R1、R2、R3は水素原子、フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又は炭素数1〜4のフッ素化されたアルキル基を示し、R1、R2、R3の内の少なくとも一つはフッ素原子含む。R4は酸不安定基である。)

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/24 , C08K 5/00 , C08L 83/08 , G03F 7/40 521 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/24 , C08K 5/00 , C08L 83/08 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

F-Term (88)：

2H025AA01 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA04 , 2H096EA06 , 2H096FA01 , 2H096HA24 , 4J002CP081 , 4J002CP091 , 4J002CP101 , 4J002DF008 , 4J002ED057 , 4J002EH007 , 4J002EH037 , 4J002EH117 , 4J002EH127 , 4J002EH137 , 4J002EH147 , 4J002EJ037 , 4J002EJ047 , 4J002EJ057 , 4J002EJ067 , 4J002EL067 , 4J002EL077 , 4J002EL087 , 4J002EN028 , 4J002EN038 , 4J002EN048 , 4J002EN068 , 4J002EN078 , 4J002EN098 , 4J002EN108 , 4J002EN118 , 4J002EN128 , 4J002EN138 , 4J002EP018 , 4J002ES008 , 4J002ET008 , 4J002EU018 , 4J002EU028 , 4J002EU048 , 4J002EU058 , 4J002EU078 , 4J002EU118 , 4J002EU128 , 4J002EU138 , 4J002EU148 , 4J002EU218 , 4J002EU228 , 4J002EU238 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EV266 , 4J002EV296 , 4J002EV318 , 4J002EV328 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J035BA11 , 4J035BA12 , 4J035BA14 , 4J035CA062 , 4J035CA072 , 4J035CA082 , 4J035CA092 , 4J035CA101 , 4J035CA16N , 4J035CA161 , 4J035CA192 , 4J035CA202 , 4J035CA222 , 4J035CA262 , 4J035LA03 , 4J035LB16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (19)

ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-048643 Applicant：ジェイエスアール株式会社
感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-303204 Applicant：東レ株式会社
高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-029321 Applicant：信越化学工業株式会社

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Cited by examiner (19)

高分子シリコーン化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-029321 Applicant：信越化学工業株式会社
高分子シリコーン化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-227633 Applicant：信越化学工業株式会社
感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-012671 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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