X線マスク及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北野好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998098867
Publication number (International publication number)：1999297593
Application date： Apr. 10, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 X線リソグラフィーに用いられるX線マスク及びその製造方法に関し、応力のゼロ調整を行った後の大気中での高温アニールによって応力が変動しないX線マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】支持膜12と、支持膜12上に形成され、Taよりなる第1の元素と、B、Si又はGeの何れかから選択された第2の元素と、外部から酸素が取り込まれるのを防止する第3元素とを含む膜よりなるX線吸収体14とによりX線マスクを構成する。

Claim (excerpt)：

支持膜と、前記支持膜上に形成され、Taよりなる第1の元素と、B、Si又はGeの何れかから選択された第2の元素と、外部から酸素が取り込まれるのを防止する第3元素とを含む膜よりなるX線吸収体とを有することを特徴とするX線マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G21K 5/02

FI (2)：

H01L 21/30 531 M , G21K 5/02 X

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

X線マスクの製造方法および加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-154322 Applicant：三菱電機株式会社
X線マスクおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-181975 Applicant：日本電気株式会社
低減された誤差を有するX線マスクを製造する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152970 Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド

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