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J-GLOBAL ID:200903025595560940
光素子およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉武 賢次 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001269231
Publication number (International publication number):2002176226
Application date: Sep. 05, 2001
Publication date: Jun. 21, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高い反射率を有し、ストップバンドの波長幅が広く、製造が容易なDBRを提供することによって、効率が高く、動作が安定しており、歩留まりが高い光素子及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 窒化物半導体からなる複数の半導体層が互いにほぼ等間隔に離間して積層された分布ブラック反射鏡(DBR)を用いる。また、窒化物半導体からなる半導体層と、有機膜からなる有機膜層と、を交互に積層した分布ブラック反射鏡(DBR)を用いる。
Claim (excerpt):
光を反射する反射鏡を備えた光素子であって、前記反射鏡は、アルミニウムを含有する第1の窒化物半導体からなるほぼ同一の膜厚の複数の半導体層が互いにほぼ等間隔に離間して積層された積層体を有することを特徴とする光素子。
IPC (7):
H01S 5/187
, C09K 9/02
, G02B 5/23
, G02B 5/26
, G02B 5/28
, H01S 5/22
, H01S 5/343 610
FI (7):
H01S 5/187
, C09K 9/02 B
, G02B 5/23
, G02B 5/26
, G02B 5/28
, H01S 5/22
, H01S 5/343 610
F-Term (32):
2H048DA01
, 2H048DA04
, 2H048DA12
, 2H048DA22
, 2H048FA04
, 2H048FA05
, 2H048FA07
, 2H048FA09
, 2H048FA13
, 2H048FA15
, 2H048FA22
, 2H048FA24
, 2H048GA04
, 2H048GA05
, 2H048GA09
, 2H048GA11
, 2H048GA23
, 2H048GA34
, 2H048GA61
, 5F073AA04
, 5F073AA07
, 5F073AA13
, 5F073AA65
, 5F073AA74
, 5F073AB17
, 5F073BA06
, 5F073CA07
, 5F073DA05
, 5F073DA06
, 5F073DA25
, 5F073DA26
, 5F073EA28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
III-V族化合物面発光レーザ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-210126
Applicant:三星電子株式会社
-
半導体発光素子およびその製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-128187
Applicant:ローム株式会社
-
面型半導体光デバイスおよびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-189647
Applicant:キヤノン株式会社
-
面発光半導体レーザ素子及びその製作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-111739
Applicant:古河電気工業株式会社, 技術研究組合新情報処理開発機構
-
面出射形半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-152833
Applicant:日本電気株式会社
-
周波数安定化レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-255122
Applicant:日本電信電話株式会社
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