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J-GLOBAL ID:200903025730312944
感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 赤堀 龍吾
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004291783
Publication number (International publication number):2006106283
Application date: Oct. 04, 2004
Publication date: Apr. 20, 2006
Summary:
【課題】 直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。【解決手段】 (A)バインダポリマーと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C1)下記一般式(1)で表される3級アミノ基含有クマリン誘導体と、を含有する感光性樹脂組成物。【化1】[式(1)中、R1及びR2はそれぞれ独立にアルキル基を示し、R3〜R7はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、水素原子、トリフルオロメチル基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、水酸基又はチオール基を示し、R1〜R7は互いに結合して環状構造を形成していてもよい。]【選択図】 なし
Claim (excerpt):
(A)バインダポリマーと、
(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、
(C1)下記一般式(1)で表される3級アミノ基含有クマリン誘導体と、を含有する感光性樹脂組成物。
IPC (6):
G03F 7/031
, C08F 2/50
, G03F 7/004
, G03F 7/027
, G03F 7/029
, H05K 3/00
FI (6):
G03F7/031
, C08F2/50
, G03F7/004 512
, G03F7/027 502
, G03F7/029
, H05K3/00 F
F-Term (29):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB11
, 2H025AB15
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC14
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC51
, 2H025CA20
, 2H025CA28
, 2H025CB10
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB43
, 2H025CB52
, 2H025EA08
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 4J011QA02
, 4J011QA03
, 4J011QA09
, 4J011QA12
, 4J011SA62
, 4J011SA78
, 4J011UA01
, 4J011WA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (7)
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重合性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-158858
Applicant:東洋インキ製造株式会社
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i線照射によるレリーフ構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-124383
Applicant:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
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ポリイミドパターンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-308316
Applicant:旭化成工業株式会社
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