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J-GLOBAL ID:200903025983301680

成膜装置及び成膜装置用噴射弁

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西村 竜平 ,  佐藤 明子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007290672
Publication number (International publication number):2009114521
Application date: Nov. 08, 2007
Publication date: May. 28, 2009
Summary:
【課題】膜品質を担保でき、しかも装置の小型化や低コスト化を図ることができ、さらに、大面積の基板2であっても均一な膜をスループット良く成膜することができる。【解決手段】基板2を内部に収容する成膜室3と、その基板2から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室3内に液体状態で噴射する噴射弁4と、を備えてなり、噴射弁4に設けられた噴射孔Hの横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、噴射孔Hの拡開角度θOが、180°以下であり、Hの短手方向の側面H1とその側面H1に連続する噴射弁内面41B1とのなす角度が、0°より大きく90°未満である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、 前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、 前記噴射孔の拡開角度が、180°以下であり、 前記噴射孔の短手方向の側面と、当該側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度が、0°より大きく90°未満である成膜装置。
IPC (1):
C23C 16/448
FI (1):
C23C16/448
F-Term (8):
4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (1)
  • 成膜装置及び成膜方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2005-333346   Applicant:学校法人同志社, 株式会社堀場製作所, 株式会社堀場エステック
Article cited by the Patent:
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