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J-GLOBAL ID：200903026986273985

ペンダントラクトン又はスルトン基を含むノルボルネン型モノマー及びポリマー

Inventor： ウー, シャオミン ,  ローズ, ラリー, エフ. ,  セガー, ローレンス
Applicant, Patent owner： プロメラス, エルエルシー
Agent (2)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006549497
Publication number (International publication number)：2007517967
Application date： Jan. 10, 2005
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：

開示された発明は、ペンダントラクトン又はスルトン基を含む新規ノルボルネン型モノマーに関する。発明はまたペンダントラクトン又はスルトン基を含むノルボルネン型ポリマー及びコポリマーに関する。これらのポリマー及びコポリマーは感光材料の製造に有用である。感光材料は、193及び157nmのフォトリソグラフィーに有用なフォトレジスト組成物において使用するのに特に適している。

Claim (excerpt)：

次の式:

IPC (4)：

C08F 32/08 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4)：

C08F32/08 ,  G03F7/075 511 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (32)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA03P ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15P ,  4J100BA76P ,  4J100BB12P ,  4J100BC03P ,  4J100BC53P ,  4J100BC84P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-269745   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポリマーおよびフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-050207   Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー
• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-331910   Applicant：信越化学工業株式会社
• 脂環構造を有する新規ラクトン化合物及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-146056   Applicant：信越化学工業株式会社
• 耐腐食性が高められた多環式レジスト組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-532454   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー, インターナショナルビジネスマシーンズコーポレーション
• 改質多環式ポリマー
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-532461   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション