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J-GLOBAL ID:200903027070448646
界面活性剤を含む溶剤から調製するメソポーラスシリカ薄膜及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大島 陽一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000590948
Publication number (International publication number):2003520745
Application date: Dec. 23, 1999
Publication date: Jul. 08, 2003
Summary:
【要約】特性として、3以下の誘電率を有し、薄膜厚さが約0.1μmから約1.5μmであり、薄膜厚さの標準偏差が±5%以下であり、平均細孔径が約20nmまたはそれ以下、誘電率が低いまたはそれらの組合せである、界面活性剤を鋳型とするメソポーラスシリカ薄膜が提供される。また、低誘電率を得るためにヒドロキシル化したシリカ表面をデヒドロキシル化する方法が提供される。また、誘電率を低くし、大気条件を制御する必要のないスピンコーティング技術を可能にするメソポーラスシリカ薄膜の製造方法が提供される。
Claim (excerpt):
界面活性剤を含む溶剤から調製するメソポーラスシリカ薄膜であって、湿り大気中で相対的安定性及び絶対的安定性を共に有するような3以下の誘電率を有し、薄膜厚さが約0.1μmから約1.5μmであり、平均細孔径が約20nmまたはそれ以下であることを特徴とするメソポーラスシリカ薄膜。
IPC (2):
FI (2):
C01B 33/12 C
, B01J 19/00 K
F-Term (15):
4G072AA25
, 4G072BB09
, 4G072BB15
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072MM01
, 4G072NN21
, 4G072RR12
, 4G072TT08
, 4G075AA24
, 4G075BC10
, 4G075CA54
, 4G075CA57
, 4G075CA62
, 4G075CA63
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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合成メソポーラス結晶性物質の改変方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-160804
Applicant:モービル・オイル・コーポレイション
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微細な無機酸化物のシリル化法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-134467
Applicant:ワツカー-ケミーゲゼルシヤフトミツトベシユレンクテルハフツング
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半導体基板上に薄膜ナノ多孔質アエロゲルを形成するための低揮発性溶剤基の方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-342342
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
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メソポア分子ふるい、およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-122830
Applicant:旭化成工業株式会社, 財団法人野口研究所
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絶縁薄膜用の多孔性シリカ薄膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-336888
Applicant:旭化成株式会社
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Article cited by the Patent: