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J-GLOBAL ID:200903027070448646

界面活性剤を含む溶剤から調製するメソポーラスシリカ薄膜及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大島 陽一
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000590948
Publication number (International publication number):2003520745
Application date: Dec. 23, 1999
Publication date: Jul. 08, 2003
Summary:
【要約】特性として、3以下の誘電率を有し、薄膜厚さが約0.1μmから約1.5μmであり、薄膜厚さの標準偏差が±5%以下であり、平均細孔径が約20nmまたはそれ以下、誘電率が低いまたはそれらの組合せである、界面活性剤を鋳型とするメソポーラスシリカ薄膜が提供される。また、低誘電率を得るためにヒドロキシル化したシリカ表面をデヒドロキシル化する方法が提供される。また、誘電率を低くし、大気条件を制御する必要のないスピンコーティング技術を可能にするメソポーラスシリカ薄膜の製造方法が提供される。
Claim (excerpt):
界面活性剤を含む溶剤から調製するメソポーラスシリカ薄膜であって、湿り大気中で相対的安定性及び絶対的安定性を共に有するような3以下の誘電率を有し、薄膜厚さが約0.1μmから約1.5μmであり、平均細孔径が約20nmまたはそれ以下であることを特徴とするメソポーラスシリカ薄膜。
IPC (2):
C01B 33/12 ,  B01J 19/00
FI (2):
C01B 33/12 C ,  B01J 19/00 K
F-Term (15):
4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072MM01 ,  4G072NN21 ,  4G072RR12 ,  4G072TT08 ,  4G075AA24 ,  4G075BC10 ,  4G075CA54 ,  4G075CA57 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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