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J-GLOBAL ID：200903027159239307

液体導入プラズマ装置

Inventor： 沖野晃俊 ,  宮原秀一 ,  土肥隆行 ,  水澤陽一
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東京工業大学
Agent (2)： 河西 祐一 ,  松山 允之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005010782
Publication number (International publication number)：2006202541
Application date： Jan. 18, 2005
Publication date： Aug. 03, 2006
Summary：

【課題】プラズマの生成安定性を向上するプラズマ装置を提供すること。 【解決手段】プラズマ発生室でプラズマを生じさせる液体導入プラズマ装置において、噴霧ガスにより噴霧口36からプラズマ発生室2内に液体を噴霧する噴霧装置3と、噴霧装置の噴霧口36付近の周囲にあり、プラズマ発生室2に噴霧された液体の周囲を包囲する包囲ガス44を吹き出し口41から吹き出す包囲ガス導入管4とを備え、包囲ガスにより噴霧された液体を包囲して、噴霧された液体の拡散を防ぐ、液体導入プラズマ装置。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

プラズマ発生室でプラズマを生じさせる液体導入プラズマ装置において、 噴霧ガスにより噴霧口からプラズマ発生室内に液体を噴霧する噴霧装置と、 噴霧装置の噴霧口付近の周囲にあり、プラズマ発生室に噴霧された液体の周囲を包囲する包囲ガスを吹き出し口から吹き出す包囲ガス導入管とを備え、 包囲ガスにより噴霧された液体を包囲して、噴霧された液体の拡散を防ぐ、液体導入プラズマ装置。

IPC (1)：

H05H 1/42

FI (1)：

H05H1/42

F-Term (3)：

4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  4K030FA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 液体導入プラズマトーチ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-272898   Applicant：財団法人理工学振興会

Cited by examiner (4)

• ICP分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-009358   Applicant：株式会社島津製作所
• 高周波誘導結合プラズマ分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-295030   Applicant：横河アナリティカルシステムズ株式会社
• 原子吸光分光光度計
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-362598   Applicant：株式会社島津製作所
• 特開昭62-225933