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J-GLOBAL ID：200903027498649387

プラズマ処理装置

Inventor：
本郷 俊明

About 本郷 俊明


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 亀谷 美明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999035953
Publication number (International publication number)：2000235900
Application date： Feb. 15, 1999
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高周波数の電磁波によりプラズマを生成することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 エッチング装置100の処理室102の天井部を構成する誘電体壁106上に非接地型のアンテナ118が配置される。アンテナ118は,電気的にλ/4(λは高周波電力の波長)の長さの第1〜第4アンテナ素子120,122,124,126から成り,誘電体壁106上の基準点Cから相互に点対称に配置される。相隣接する第1〜第4アンテナ素子120〜126ごとに90 ゚ずつ位相がずれた100MHz以上の高周波電力を印加すると,点対称にある第1〜第4アンテナ素子120〜126組がλ/2に共振し,電力と同一の周波数の電磁波が発振され,誘電体壁106を介して処理室102内に導入される。電磁波により処理ガスが解離してプラズマ化し,処理室102内のウェハWにエッチング処理が施される。
Claim (excerpt)：
被処理体が収容される処理室と,前記処理室の一面を構成する誘電体壁と,前記誘電体壁を介して電磁波を前記処理室内に導入して前記処理室内に供給された処理ガスをプラズマ化するアンテナとを備えたプラズマ処理装置において,前記アンテナは,アンテナ設置面に仮想的に設定される基準点から相互に点対称に延伸し,前記基準点側にそれぞれ給電点を有するn本(ただし,nは2以上の整数である)の略λ/4長アンテナ(ただし,λは前記アンテナに印加されるプラズマ生成用高周波電力の波長である)組から成り,さらに,前記各λ/4長アンテナに対して,相隣接する前記λ/4長アンテナごとに360 ゚/nずつ位相がずれたプラズマ生成用高周波電力を印加する電力供給手段を備えることを特徴とする,プラズマ処理装置。
IPC (3)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (3)：
H05H 1/46 L ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
F-Term (13)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045EH02 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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