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J-GLOBAL ID：200903027661124840

光ディスク及びその製造方法

Inventor：
西田 真達

About 西田 真達

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坂本 哲洋

About 坂本 哲洋

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柏木 俊行

About 柏木 俊行

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古木 基裕

About 古木 基裕


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998003485
Publication number (International publication number)：1999203724
Application date： Jan. 09, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 外周部における隆起部の発生が極力抑えられて表面性の良好な光透過層を有し、更なる大容量化が可能とされた光ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 光ディスク1は、基板2上に記録部6、光透過層5が順次形成されており、光透過層5側から光が入射されて記録部6の信号記録領域6aに対して情報信号の記録及び/又は再生が行われる。基板2の最外周部から信号記録領域6aまでの径方向の距離Dは、光透過層5の外周部に生じた隆起部5aの径方向の幅Lよりも大きくなされている。そして、この隆起部5aの光透過層5の表面からの高さhが70μm以下である。
Claim (excerpt)：
基板上に記録層、光透過層が順次形成されており、当該光透過層側から光が入射されて上記記録層の信号記録領域に対して情報信号の記録及び/又は再生が行われる光ディスクにおいて、上記基板の最外周部から上記信号記録領域までの径方向の距離は、上記光透過層の外周部に生じた隆起部の径方向の幅よりも大きくなされており、当該隆起部の上記光透過層の表面からの高さが70μm以下であることを特徴とする光ディスク。
IPC (2)：
G11B 7/24 535 ,  G11B 7/26 531
FI (2)：
G11B 7/24 535 E ,  G11B 7/26 531
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
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