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J-GLOBAL ID:200903027722020953
プラズマ生成装置用高周波電源装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002180730
Publication number (International publication number):2004030931
Application date: Jun. 21, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】プラズマの着火性向上およびプラズマの安定性を向上することのできるプラズマ生成装置用高周波電源装置を提供する。【解決手段】プロセスで使用する目標位相差設定信号111と独立した、位相差初期値設定信号(開始信号)110を任意に設定できる機能を有し、また、プラズマの状態により位相差初期値設定信号110を一定時間保持することができ、本保持時間の経過後に目標の位相差へ自動制御へ移行する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
処理室内に複数個の電極を設け、該複数個の電極に同じ周波数の高周波電力を印加するとともに、各電極に印加する周波数の位相を任意に制御できる機能を備えたプラズマ生成装置用高周波電源装置であって、位相制御の位相差開始値をあらかじめ任意に設定できるように構成したことを特徴とするプラズマ生成装置用高周波電源装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (7):
4G075AA22
, 4G075AA30
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EC21
, 4G075EC30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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