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J-GLOBAL ID：200903030205264088

投影露光装置

Inventor：
西 健爾

About 西 健爾


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996045796
Publication number (International publication number)：1997246140
Application date： Mar. 04, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 露光時には露光用の照明光の吸収が少ないと共に、メンテナンス時等における作業者の安全を確保できる投影露光装置を提供する。【解決手段】 投影露光装置を照明系ユニット111、レチクルステージ系ユニット112、投影光学系ユニット113、及びウエハステージ系ユニット114に分ける。第1空調装置116からはオゾンを除去した空気を、第2空調装置117からは窒素ガスをそれぞれ気体切り換え器120Aに供給し、気体切り換え器120Aでは露光時には窒素ガスを、メンテナンス時にはオゾン除去後の空気をそれぞれ選択して照明系ユニット111、レチクルステージ系ユニット112、及びウエハステージ系ユニット114に供給する。投影光学系ユニット113には常時第2空調装置117より窒素ガスを供給する。
Claim (excerpt)：
露光用の照明光を発生する露光光源を備え、前記照明光で転写用パターンの形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記照明光のもとで前記マスクのパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を移動する基板ステージと、を有する投影露光装置において、前記露光光源として紫外域以下の波長で発振するレーザ光源を使用し、前記照明光学系、前記投影光学系、及び前記基板ステージを複数個の独立のケーシング内に収納し、該複数個のケーシングの内の少なくとも1つのケーシング内に複数種類の気体を切り換えて供給する気体供給手段を設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (5)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-046519   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開昭61-051150
  • X線露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-248834   Applicant：松下電器産業株式会社
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