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J-GLOBAL ID：200903028162537374

感放射線性樹脂組成物

Inventor：
諏訪 充史

About 諏訪 充史

, 
梶田 徹

About 梶田 徹

, 
岩永 伸一郎

About 岩永 伸一郎


Applicant, Patent owner：
日本合成ゴム株式会社

About 日本合成ゴム株式会社


Agent (1)： 大島 正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996086093
Publication number (International publication number)：1997274318
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：
【要約】【課題】 活性光線、例えば、アルゴンフルオライドエキシマレーザー光の照射で発生した酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が向上する原理を応用した、いわゆる化学増幅系のフォトレジストにおいて、組成物膜における透過性のコントロールを十分行うことができ、定在波およびハレーションの低減が大きく、現像液、パターン形状などの良好な、なおかつ十分なドライエッチング耐性を有する感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(B)感放射線性酸発生剤および(C)(イ)親水性官能基を有し且つ炭素数5以上25以下のアリサイクリック系低分子化合物および(ロ)炭素数10以上40以下のナフタレン系低分子化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
(A)酸の作用により保護基を脱離してアルカリ可溶性となる樹脂、(B)感放射線性酸発生剤および(C)(イ)親水性官能基を有し且つ炭素数5以上25以下のアリサイクリック系低分子化合物および(ロ)炭素数10以上40以下のナフタレン系低分子化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  C08F 2/46 MDN ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 501 ,  C08F 2/46 MDN ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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