感光性組成物およびこれを用いたパタン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997110706
Publication number (International publication number)：1998301283
Application date： Apr. 28, 1997
Publication date： Nov. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】短波長光源に対して透明性が優れ、かつ充分なドライエッチング耐性を有し、溶解性、アルカリ現像性の高い感光性組成物を提供する。【解決手段】ベース樹脂、光酸発生剤及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物である。【化1】(上記一般式(1)中、R1 は1価の有機基であり、X1 は、>C=O、-C(=O)O-、-CONR3 -、-SO2 -、-S(=O)2 NR3 -及び-O-からなる群から選択される基である(R3 は、水素原子、ハロゲン原子、又は炭化水素基である)。R2 は、脂環式骨格を含む基であり、このR2 において、X1 に直接結合している原子は3級炭素原子である。)

Claim (excerpt)：

ベース樹脂、光酸発生剤、および下記一般式(1)で表わされる化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。【化1】(上記一般式(1)中、R1 は1価の有機基であり、X1 は、>C=O、-C(=O)O-、-CONR3 -、-SO2 -、-S(=O)2 NR3 -、および-O-からなる群から選択される基である(R3 は、水素原子、ハロゲン原子、または炭化水素基である)。R2 は、脂環式骨格を含む基であり、このR2 において、X1 に直接結合している原子は3級炭素原子である。)

IPC (7)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/04 , C08K 5/20 , C08K 5/41 , C08L 33/00 , C08L 43/02 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/04 , C08K 5/20 , C08K 5/41 , C08L 33/00 , C08L 43/02 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感光性材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-185046 Applicant：株式会社東芝
フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-164838 Applicant：日本電気株式会社
フェニルアセテートおよびその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-095657 Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト

Show all

Return to Previous Page