フォトレジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996074506
Publication number (International publication number)：1997265177
Application date： Mar. 28, 1996
Publication date： Oct. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】220nm以下の単波長で使用できるレジスト膜の解像性は十分なものではない。【解決手段】一般式(1)または(2)で表わされる化合物からなる溶解阻止剤と光酸発生剤とを含有させる。

Claim (excerpt)：

下記の一般式(1)または(2)で表される化合物からなる溶解阻止剤と、光の照射により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とするフォレジスト組成物。ただし、R1 ,R1 ′は、炭素数1〜12の一価の炭化水素基、R2 は炭素数1〜12の一価の炭化水素、R3 ,R3 ′は、独立して水素原子、炭素数1〜2の一価の炭化水素基、R4 ,R4 ′は、水素原子または炭素数1〜2の一価の炭化水素基。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

アルコキシアルキルエステル溶解抑制剤を含んでなる光画像形成性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-309070 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニユフアクチヤリングカンパニー
特開平4-037760
ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-060986 Applicant：日本電信電話株式会社

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