湿潤性向上のための高分子表面改質方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：朝日奈宗太 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000584977
Publication number (International publication number)：2002531588
Application date： May. 15, 1999
Publication date： Sep. 24, 2002
Summary：

【要約】本発明は高分子表面の改質方法に係り、とくに高分子または高分子膜表面を改質して親水性を付与したりまたは疎水性を増加させる方法に関する。本発明は真空条件下でエネルギーを有するイオン粒子を高分子膜の表面に照射して高分子膜表面を改質する方法である。本発明は、a)真空チャンバ内に高分子膜を挿入し、高真空下でエネルギーを有するイオン粒子をイオンビームによって高分子膜表面に照射して活性化した表面を含む高分子膜を製造する段階と、b)前記a)段階のエネルギーを有するイオン粒子の照射後、真空チャンバ内に反応性ガスを注入して前記a)段階の活性化した表面を含む高分子膜の表面を反応性ガスで処理した高分子膜を製造する段階とを含む方法を提供する。

Claim (excerpt)：

真空条件下でエネルギーを有するイオン粒子を高分子膜の表面に照射する段階を含む高分子膜の表面改質方法。

IPC (9)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CES , B01D 39/16 , B01D 69/12 , B01D 71/26 , B01J 3/00 , B01J 19/12 , H01M 2/16 , C08L 23:00

FI (10)：

C08J 7/00 306 , C08J 7/00 CES , B01D 39/16 C , B01D 69/12 , B01D 71/26 , B01J 3/00 J , B01J 19/12 F , H01M 2/16 P , H01M 2/16 Z , C08L 23:00

F-Term (64)：

4D006GA14 , 4D006JA02C , 4D006MA08 , 4D006MB01 , 4D006MB09 , 4D006MB10 , 4D006MB13 , 4D006MC22 , 4D006MC23X , 4D006NA03 , 4D006NA05 , 4D006NA33 , 4D006NA42 , 4D006NA59 , 4D006NA60 , 4D006NA66 , 4D006NA67 , 4D006PA01 , 4D006PA02 , 4D006PB12 , 4D006PB13 , 4D006PC01 , 4D006PC11 , 4D006PC41 , 4D006PC71 , 4D019AA03 , 4D019BA13 , 4D019BB08 , 4D019BC13 , 4D019BD01 , 4D019CB04 , 4D019CB06 , 4F073AA01 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BB01 , 4F073CA51 , 4F073HA03 , 4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA62 , 4G075BA05 , 4G075CA39 , 4G075CA62 , 4G075CA63 , 4G075CA65 , 4G075DA13 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075FC02 , 4G075FC20 , 5H021BB05 , 5H021BB13 , 5H021BB15 , 5H021CC02 , 5H021CC04 , 5H021EE00 , 5H021EE04 , 5H021EE35 , 5H021EE37 , 5H021HH00 , 5H021HH06 , 5H021HH10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (18)

特開昭51-027425
特開平4-141222
パルス素粒子ビームを用いるポリマー表面処理
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-522969 Applicant：サンディア・コーポレーション

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