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J-GLOBAL ID:200903029034834540
観察試料作成方法及びその装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995131840
Publication number (International publication number):1996329876
Application date: May. 30, 1995
Publication date: Dec. 13, 1996
Summary:
【要約】【目的】 TEMにおいてガス供給系を設け、電子ビームアシストエッチングによりTEM用試料を作成する。【構成】 電子源1より電子ビームを引出し、第一、第二コンデンサレンズ4、5で収束して試料40に照射し、ガスボンベ38、39より反応性ガスをノズル30、31を介して試料に吹き付け、電子ビームを走査して、電子ビームのエネルギーで反応性ガスと試料との化学反応を誘起し、局所的エッチングによって加工する。加工後反応性ガスを排気し、試料のTEM像による観察をする。微細な電子ビームにより高精度で損傷のない最適な厚さのTEM用試料が作成できる。
Claim (excerpt):
試料の二次電子像により位置決めし、反応性ガス雰囲気中で前記試料に電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射部で局所的に反応性エッチングを施し当該試料を所定厚さに加工し、前記加工後に前記反応性ガスを排気し、透過電子顕微鏡観察することを特徴とする観察試料作成方法。
IPC (7):
H01J 37/305
, C23F 4/02
, G01N 1/28
, G01N 1/32
, H01J 37/147
, H01J 37/20
, H01J 37/244
FI (7):
H01J 37/305 A
, C23F 4/02
, G01N 1/32
, H01J 37/147 E
, H01J 37/20 Z
, H01J 37/244
, G01N 1/28 F
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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特開平4-033326
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断面加工観察用荷電ビーム装置および加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-016633
Applicant:セイコー電子工業株式会社
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特開平3-263746
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集束荷電ビーム装置および加工観察方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-019059
Applicant:セイコー電子工業株式会社
-
特開平4-273143
-
特開平4-076437
-
収束イオンビーム加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-056494
Applicant:キヤノン株式会社
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イオン/電子ビーム応用装置の二次粒子検出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-053961
Applicant:株式会社日立製作所
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試料加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-300322
Applicant:セイコー電子工業株式会社
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特開平3-272554
-
特開平3-059939
-
特開平1-169860
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集束イオンビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-247601
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭59-143249
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電子顕微鏡法のためのイオンビーム準備装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-532892
Applicant:バル-テク・アクツィエンゲゼルシャフト
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