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J-GLOBAL ID：200903029153594795

近接場光発生装置

Inventor： 松本 拓也 ,  木口 雅史 ,  助田 裕史
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001308153
Publication number (International publication number)：2003114184
Application date： Oct. 04, 2001
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明は、高分解能、高効率な近接場光プローブを提供することを目的とする。【解決手段】基板表面に形成された幅が徐々に小さくなった平面状の散乱体11を用いて近接場光を発生させる。このとき散乱体11の面積を光スポットの面積より小さくし、さらに散乱体の材質、形状、寸法をプラズモン共鳴が発生するように設定することにより、近接場光強度を増強する。【効果】 光の光利用効率の近接場光発生装置を得ることができる。

Claim (excerpt)：

光源と、近接場光を発生させる1の頂点の方向に向かい幅が小さくなった導電性の散乱体を備え、前記散乱体の面積は、前記光源から前記散乱体に照射される光のスポット面積より、または前記散乱体に照射される光の波長の2乗より小さいようにされたことを特徴とする近接場光発生装置。

IPC (2)：

G01N 13/14 ,  G02B 21/00

FI (2)：

G01N 13/14 B ,  G02B 21/00

F-Term (1)：

2H052AF19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-395169   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-073922   Applicant：株式会社日立製作所
• 光ヘッド、光磁気ヘッド、ディスク装置、および光ヘッドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-376777   Applicant：富士ゼロックス株式会社
• 近接場光ヘッド、近接場光ヘッドの加工方法および光記録再生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-066489   Applicant：株式会社日立製作所