プラズマ発生装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：藤谷修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004040628
Publication number (International publication number)：2005235464
Application date： Feb. 17, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】大気圧において安定してプラズマを発生させること。【解決手段】ガス及びマイクロ波を導入する筒状の筐体10と、この筐体の底面に設けられた孔30と、筐体の軸方向に設けられ、孔の輪郭の内側に底面の輪郭を有した柱状の導体40とを有している。この導体40の底面41の輪郭と孔の輪郭との間に形成された微小ギャップAと、導体と筐体により形成される同軸導波路と、微小ギャップにおける孔の少なくとも輪郭部に形成された絶縁膜22とを有している。この構成において、マイクロ波は同軸導波路により微小ギャップに誘導され、ガスを微小ギャップを通過させて、この微小ギャップにおいてガスをプラズマとする。マイクロ波はパルスでデューティ制御され、孔30の輪郭部は冷媒で電極20の内部から冷却されている。これによりプラズマ温度の上昇を抑制することができ、安定したプラズマを発生することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

プラズマを生成すべきガスが通過すると共に導波されたマイクロ波の電界密度を高くするための微小ギャップを構成する導体から成る電極を有したプラズマ発生装置において、前記電極の少なくとも微小ギャップを形成する表面部分には絶縁膜が形成されていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4)：

H05H1/24 , H01L21/205 , H01L21/304 , H01L21/3065

FI (4)：

H05H1/24 , H01L21/205 , H01L21/304 645C , H01L21/302 101E

F-Term (13)：

5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB29 , 5F004DA01 , 5F004DA17 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA25 , 5F045AA09 , 5F045AE29 , 5F045AE30 , 5F045EH19

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

プラズマ放電を発生させるためのスロット付導波管構造
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-573139 Applicant：ザ・ユニバーシティ・オブ・テネシー・リサーチ・コーポレイション
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-190212 Applicant：富士通株式会社
特開平1-309300

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