Pat
J-GLOBAL ID:200903030003003770
蛍光媒介式分子断層撮影法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
清水 初志
, 橋本 一憲
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002543944
Publication number (International publication number):2004514150
Application date: Nov. 27, 2001
Publication date: May. 13, 2004
Summary:
本発明は、深部組織における近赤外蛍光賦活の検出を目的として設計された、蛍光媒介式の分子断層撮影撮像システムに関する。システムでは、標的蛍光分子プローブまたは活性化可能な高感度の蛍光分子プローブを使用することができる。このようなプローブにより分子の特異度が向上し且つ高い蛍光コントラストがもたらされ、したがって、癌などの疾患組織をインビボで早期に検出および分子標的評価することが可能になる。本発明の新規の断層撮影撮像システムにより、分子プローブの定量および深部組織における三次元の位置特定が可能になる。
Claim (excerpt):
以下を含む、蛍光媒介式分子断層撮影法(FMT)撮像システム:
入射光を供給するための光源;
2つ以上の別々の励起点から対象物内へと光を誘導するための多点入射光照射アレイ;
光源から多点入射光照射アレイの各点へと光を伝送するための複数の光ファイバー;
対象物から放出された光を2つ以上の別々の収集点から収集するための多点検出アレイ;
対象物から放出された光を検出器へと伝送するための二次元発光アレイ;
各収集点から二次元発光アレイ上の対応する点へと光を伝送するための複数の光ファイバー;および
二次元発光アレイの各点から放出された光を検出し且つ対象物から放出された光に対応するデジタル信号に変換するための検出器。
IPC (3):
G01N21/64
, A61B10/00
, G01N21/17
FI (3):
G01N21/64 Z
, A61B10/00 E
, G01N21/17 620
F-Term (42):
2G043AA03
, 2G043BA16
, 2G043DA01
, 2G043EA01
, 2G043FA01
, 2G043FA06
, 2G043GA02
, 2G043GA04
, 2G043GB01
, 2G043HA05
, 2G043JA02
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2G043NA01
, 2G043NA06
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE01
, 2G059EE07
, 2G059EE11
, 2G059FF01
, 2G059FF06
, 2G059FF12
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG03
, 2G059GG06
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ02
, 2G059JJ17
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
, 2G059MM14
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
近赤外診療光学走査装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-517267
Applicant:ザ・リサーチ・ファンデーション・オブ・ステート・ユニバーシティ・オブ・ニューヨーク
-
蛍光断層像測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-028276
Applicant:新技術事業団
-
特開平4-122248
-
光計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-278797
Applicant:株式会社日立製作所
-
光CT装置及び画像再構成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-342985
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
組織およびその他のランダム媒体における蛍光寿命に基づく撮像および分光分析
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-510471
Applicant:パーデュー・リサーチ・ファンデーション
-
特開平4-083149
-
レーザ走査顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294107
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Return to Previous Page