Pat
J-GLOBAL ID:200903030117837299
積層構造およびその製造方法、表示素子、ならびに表示装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤島 洋一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003151156
Publication number (International publication number):2004355918
Application date: May. 28, 2003
Publication date: Dec. 16, 2004
Summary:
【課題】絶縁膜の成膜不良あるいは空孔などを防止して欠陥を低減することができる積層構造およびその製造方法、ならびに表示装置を提供する。【解決手段】基板11の平坦面11Aに、有機発光素子10R,10G,10Bの陽極としての積層構造14が設けられている。積層構造14は、基板11の側から、ITOよりなる密着層14B、銀または銀を含む合金よりなる反射層14AおよびITOよりなるバリア層14Cがこの順に積層され、その積層方向の断面は順テーパ状となっている。密着層14B,反射層14Aおよびバリア層14Cのなす側壁面14Eは、絶縁膜15により完全に覆われ、絶縁膜15の成膜不良あるいは空孔が防止される。側壁面14Eと平坦面11Aとのなすテーパ角θは、10°以上70°以下であることが好ましい。積層構造14は、液晶ディスプレイの反射電極、反射膜あるいは配線としても使用可能である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
平坦面を有する基板の表面に設けられ、複数の層が積層されてなると共に積層方向の断面形状が順テーパ状である
ことを特徴とする積層構造。
IPC (6):
H05B33/26
, G02F1/1343
, G02F1/1368
, H01L21/768
, H05B33/10
, H05B33/14
FI (6):
H05B33/26 Z
, G02F1/1343
, G02F1/1368
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H01L21/90 A
F-Term (68):
2H092GA17
, 2H092GA25
, 2H092HA05
, 2H092JA24
, 2H092JA40
, 2H092JA44
, 2H092JB07
, 2H092JB24
, 2H092JB33
, 2H092MA14
, 2H092MA18
, 2H092MA19
, 2H092NA16
, 2H092NA27
, 2H092PA02
, 2H092PA08
, 3K007AB03
, 3K007AB11
, 3K007CC00
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 5F033HH07
, 5F033HH08
, 5F033HH14
, 5F033HH17
, 5F033HH38
, 5F033JJ01
, 5F033JJ08
, 5F033JJ14
, 5F033JJ38
, 5F033KK08
, 5F033KK09
, 5F033MM08
, 5F033MM13
, 5F033NN06
, 5F033NN07
, 5F033PP06
, 5F033PP11
, 5F033PP15
, 5F033PP19
, 5F033PP27
, 5F033PP28
, 5F033PP31
, 5F033QQ08
, 5F033QQ09
, 5F033QQ10
, 5F033QQ11
, 5F033QQ21
, 5F033QQ34
, 5F033QQ37
, 5F033QQ98
, 5F033RR04
, 5F033RR06
, 5F033RR14
, 5F033RR22
, 5F033SS10
, 5F033SS11
, 5F033SS22
, 5F033VV15
, 5F033WW00
, 5F033WW10
, 5F033XX00
, 5F033XX01
, 5F033XX03
, 5F033XX14
, 5F033XX16
, 5F033XX20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
-
発光装置及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-274037
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
発光装置及び液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-269418
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
薄膜EL素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-024628
Applicant:富士電機株式会社
-
配線用組成物、この組成物を用いた金属配線およびその製造方法、この配線を用いた表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-045998
Applicant:三星電子株式会社
-
有機ELパネル及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-198836
Applicant:日本精機株式会社
-
特開昭57-060691
-
透明電極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-308507
Applicant:三井化学株式会社
-
Ag合金薄膜電極、有機EL素子及びスパッタリング用ターゲット
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-242174
Applicant:株式会社アルバック, 真空冶金株式会社
-
導電性積層体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-117815
Applicant:出光興産株式会社
-
透明導電膜、その形成方法および透明導電膜の加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-259788
Applicant:株式会社東芝
-
反射型電極基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-129824
Applicant:出光興産株式会社
-
有機ELディスプレイおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-108473
Applicant:富士電機ホールディングス株式会社
-
発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-381790
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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