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J-GLOBAL ID:200903030170749229
シャワープレート、シャワープレート周辺構造及びプロセス装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
福森 久夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998097978
Publication number (International publication number):1999297672
Application date: Apr. 09, 1998
Publication date: Oct. 29, 1999
Summary:
【要約】【課題】 材料に関わりなく吹出口の形成が容易なシャワープレートを提供すること。マイクロ波励起プラズマ装置に用いた場合、シャワープレートとその上に載せる隙間板とのギャップにおいてプラズマが着火するのを防ぐことが可能なシャワープレートを提供する。【解決手段】 吹出口207は、プレート202に開けられた孔と、孔に挿入された孔よりも小さな径を有する円柱204との間に形成される空間により形成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
プレートに複数の吹出口を有するシャワープレートにおいて、該吹出口は、該プレートに開けられた孔と、該孔に挿入された該孔よりも小さな径を有する円柱との間に形成される空間により形成されていることを特徴とするシャワープレート。
IPC (2):
H01L 21/3065
, H01L 21/205
FI (2):
H01L 21/302 B
, H01L 21/205
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-167451
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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プラズマプロセス反応装置用ガス注入スリットノズル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-236954
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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特開昭56-051828
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ドライエッチング装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-185386
Applicant:国際電気株式会社
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半導体製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-333719
Applicant:株式会社日立製作所
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プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-218282
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭63-263725
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