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J-GLOBAL ID：200903030298211191

ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた表示素子用基材

Inventor：
加藤 哲也

About 加藤 哲也

, 
青木 知三郎

About 青木 知三郎


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998280766
Publication number (International publication number)：2000112120
Application date： Oct. 02, 1998
Publication date： Apr. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基板全体にわたって均一な膜厚の塗膜形成が可能であるとともに、粒子の発生がなく、保存安定性に優れる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液、及び表示素子用基材を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は3-メトキシプロピオン酸メチル60〜98重量%とγ-ブチロラクトン40〜2重量%との混合溶剤に溶解して、非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液とするとともに、この塗布液の塗膜をガラス角基板上に形成させて表示素子用基材とする。
Claim (excerpt)：
(A)アルカリ可溶性樹脂及び(B)キノンジアジド基含有化合物を、(C)有機溶剤に溶解してなる非化学増幅型のポジ型ホトレジスト塗布液において、(C)成分として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又は3-メトキシプロピオン酸メチル60〜98重量%とγ-ブチロラクトン40〜2重量%との混合溶剤を用いることを特徴とするポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (3)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
FI (3)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
F-Term (12)：
2H025AA00 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025DA18 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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