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J-GLOBAL ID：200903030448021558

レーザ逆コンプトン光生成装置

Inventor： 青木 延忠 ,  中川 敏
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 波多野 久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000163780
Publication number (International publication number)：2001345503
Application date： May. 31, 2000
Publication date： Dec. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】逆コンプトン散乱効果を利用してX線またはγ線等の短波長光を生成するレーザ逆コンプトン光生成装置を提供する。【解決手段】本発明に係るレーザ逆コンプトン光生成装置は、反応部18の別々の位置にレーザ逆コンプトン光ポート22と、レーザビームポート21とを設置した。

Claim (excerpt)：

電子蓄積リングの直線部分を利用して反応部を形成し、この反応部にレーザ系からのレーザビームを供給し、電子ビームに衝突させ、レーザ逆コンプトン光を生成するレーザ逆コンプトン光生成装置において、上記反応部の別々の位置にレーザ逆コンプトン光ポートとレーザビームポートとを設置したことを特徴とするレーザ逆コンプトン光生成装置。

IPC (4)：

H01S 3/30 ,  B01J 19/12 ,  G21K 5/02 ,  H05H 13/04

FI (4)：

H01S 3/30 Z ,  B01J 19/12 B ,  G21K 5/02 X ,  H05H 13/04 U

F-Term (26)：

2G085AA14 ,  2G085BA13 ,  2G085BA15 ,  2G085BA20 ,  2G085CA19 ,  2G085DB04 ,  4G075AA01 ,  4G075AA43 ,  4G075CA36 ,  4G075CA39 ,  4G075CA42 ,  4G075DA02 ,  4G075EB24 ,  4G075EB32 ,  4G075EC06 ,  5F072AC10 ,  5F072HH02 ,  5F072HH03 ,  5F072JJ20 ,  5F072KK06 ,  5F072LL08 ,  5F072PP07 ,  5F072RR07 ,  5F072RR10 ,  5F072YY03 ,  5F072YY05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ビーム位置モニタ方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-092630   Applicant：住友電気工業株式会社
• 光短波長化装置及び光短波長化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-134806   Applicant：工業技術院長, ソニー株式会社, 大垣英明
• 電子/レーザ衝突型X線発生装置及びX線発生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-068622   Applicant：住友重機械工業株式会社
• 光核反応断面積測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-219052   Applicant：三菱重工業株式会社
• 高エネルギー・コヒーレント電子線とガンマ線レーザーの発生方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-096560   Applicant：科学技術振興事業団
• 放射光発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-243968   Applicant：石川島播磨重工業株式会社