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J-GLOBAL ID：200903030580311310

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998327056
Publication number (International publication number)：2000187327
Application date： Nov. 17, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 現像の際の現像欠陥の問題を解消し、且つ短波長光源に対して感度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する化合物、特定の構造の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、親水性官能基を有するナ特定の化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(i)親水性官能基および環状炭化水素基を有する低分子化合物又は(ii)親水性官能基を有するナフタレン化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (20)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H097CA13 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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