近視野光発生素子の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松下義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005208670
Publication number (International publication number)：2006329968
Application date： Jul. 19, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】ボウタイアンテナを比較的低レベルなフォトリソグラフィーを用いて製造する手法を提供する。【解決手段】四角錐台102の頂面102eと相似な形状のエッチングマスク201を基板101上に形成し、エッチングマスク201をマスク材として基板101を等方性エッチングすることで四角錐台102を形成する。その後、四角錐台102の向かい合う2つの側面102aと102b上に、それぞれの面の正面かつ基板101に平行な方向から蒸着源を入射することで金属膜103と104を形成する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

頂面と4つの側面からなる錐台の向かい合う2つの前記側面上に金属膜を有する近視野光発生素子の製造方法であって、前記頂面と相似な形状のエッチングマスクを基板上に形成する工程と、前記エッチングマスクをマスク材として前記基板を等方性エッチングすることにより、前記基板から前記錐台を形成する工程と、前記錐台の向かい合う2つの前記側面上に前記金属膜を形成する工程とを含む近視野光発生素子の製造方法。

IPC (3)：

G01N 13/14 , G11B 7/135 , G11B 7/22

FI (3)：

G01N13/14 B , G11B7/135 A , G11B7/22

F-Term (5)：

5D789AA11 , 5D789AA38 , 5D789CA22 , 5D789JA66 , 5D789NA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

セラミックス発光管
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-292409 Applicant：オスラム-シルヴェニアインコーポレイテッド
近接場光プローブおよびそれを用いた近接場光学顕微鏡および光記録/再生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-016501 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (11)

光プローブ及び光ピックアップ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-277109 Applicant：株式会社東芝
近視野光発生素子、近視野光記録装置、および近視野光顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-092276 Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
電界放射型電子源及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-110354 Applicant：松下電器産業株式会社

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