Pat
J-GLOBAL ID：200903030806480900

シリカのシラノール基含有率が低いシリカ

Inventor：
ヘルベルト バルテル

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マリオ ハイネマン

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フランツ グリューンヴァルト

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ヘルムート マギノート

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ウーテ フェルケル

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Applicant, Patent owner：
ワツカー-ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング

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Agent (1)： 矢野 敏雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002265908
Publication number (International publication number)：2003176122
Application date： Sep. 11, 2002
Publication date： Jun. 24, 2003
Summary：
【要約】【課題】 BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカを提供する。【解決手段】 (1)シリル化剤による親水性出発シリカの被覆、(2)親水性シリカとシリル化剤との反応、および(3)シリル化剤および副反応生成物からの親水性シリカの精製の工程をそれぞれ、専用の容器内で行う。【効果】 該シリカを含有するトナーおよび現像剤は電子写真印刷において有利に使用することができ、直接法による画像転写法においても使用可能であり、またラッカーおよび塗料において耐引掻性の被覆を得るために使用される。
Claim (excerpt)：
BET法(DIN66131および66132)による表面積に対して、nm2あたりのSiOHの密度が0.6より小であるシリル化されたシリカ。
IPC (5)：
C01B 33/12 ,  C08K 3/36 ,  C08L101/00 ,  G03G 9/08 371 ,  G03G 9/08 375
FI (5)：
C01B 33/12 Z ,  C08K 3/36 ,  C08L101/00 ,  G03G 9/08 371 ,  G03G 9/08 375
F-Term (22)：
2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA05 ,  2H005EA07 ,  2H005EA10 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD09 ,  4G072HH28 ,  4G072MM03 ,  4G072QQ06 ,  4G072QQ09 ,  4G072RR12 ,  4G072TT01 ,  4G072UU09 ,  4J002CP031 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA086 ,  4J002FB096 ,  4J002FD016
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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