疎水性煙霧シリカ及びその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999060699
Publication number (International publication number)：2000256008
Application date： Mar. 08, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】シリコーン樹脂等に添加した際、樹脂の透明性を損なわず、粘度を低く維持できる疎水性煙霧シリカ。【解決手段】表面が有機珪素化合物により疎水化されてなり、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2000ppm以下であることを特徴とする疎水性煙霧シリカ。

Claim (excerpt)：

表面が有機珪素化合物により疎水化されてなり、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2000ppm以下であることを特徴とする疎水性煙霧シリカ。

IPC (4)：

C01B 33/159 , C08K 3/36 , C08K 9/06 , C08L 83/04

FI (4)：

C01B 33/159 , C08K 3/36 , C08K 9/06 , C08L 83/04

F-Term (24)：

4G072AA25 , 4G072BB05 , 4G072BB13 , 4G072CC16 , 4G072DD02 , 4G072DD03 , 4G072DD04 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072DD07 , 4G072GG03 , 4G072HH19 , 4G072JJ47 , 4G072TT01 , 4G072TT04 , 4G072TT30 , 4G072UU09 , 4J002CP001 , 4J002DJ016 , 4J002FB096 , 4J002FB116 , 4J002FB146 , 4J002FB266 , 4J002FD016

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

樹脂充填材用二酸化珪素微粉末
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-160358 Applicant：日本アエロジル株式会社
低い構造の熱分解法金属酸化物充填剤の製法及び高分子物質、ゴム、シーラント、コーキング材及び接着剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-181614 Applicant：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
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