Pat
J-GLOBAL ID：200903030828588780

3次元形状測定方法

Inventor：
谷川 洋平

About 谷川 洋平

, 
伊藤 直

About 伊藤 直


Applicant, Patent owner：
オリンパス株式会社

About オリンパス株式会社


Agent (1)： 斎藤 圭介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005147609
Publication number (International publication number)：2006322868
Application date： May. 20, 2005
Publication date： Nov. 30, 2006
Summary：
【課題】安価かつ簡易な構成の装置により、簡便な手順で高精度に3次元形状測定を行うことができる3次元形状測定方法を提供すること。【解決手段】被測定物200を所定の回転軸AXの周りに回転させる回転工程と、回転軸AXと略直交する方向について、第1の位置X=-Lから回転軸AXまで被測定物200の形状を測定する第1測定工程と、回転軸AXと略直交する方向について、回転軸AXから第2の位置X=Lまで被測定物200の形状を測定する第2測定工程と、第1測定工程で得られた第1の測定データと、第2測定工程で得られた第2の測定データとに基づいて回転軸AXの回転誤差を補正するための回転誤差パラメータを算出する補正値算出工程と、補正値算出工程で算出された回転誤差パラメータに基づいて被測定物200の形状を補正する補正工程とを有する。【選択図】 図7
Claim (excerpt)：
被測定物を所定の回転軸の周りに回転させる回転工程と、 前記回転軸と略直交する方向について、回転軸の片側にある第1の位置において前記被測定物の形状を測定する第1測定工程と、 前記回転軸と略直交する方向について、回転軸に関して前記第1の位置とは逆側にある第2の位置において前記被測定物の形状を測定する第2測定工程と、 前記第1測定工程で得られた第1の測定データと、前記第2測定工程で得られた第2の測定データとに基づいて前記回転軸の回転誤差を補正するための回転誤差補正値を算出する補正値算出工程と、 前記補正値算出工程で算出された前記回転誤差補正値に基づいて前記被測定物の形状を補正する補正工程と、を有することを特徴とする3次元形状測定方法。
IPC (1)：
G01B 21/20
FI (1)：
G01B21/20 C
F-Term (15)：
2F069AA66 ,  2F069DD30 ,  2F069EE04 ,  2F069EE22 ,  2F069GG01 ,  2F069GG11 ,  2F069GG52 ,  2F069GG62 ,  2F069HH02 ,  2F069JJ07 ,  2F069JJ17 ,  2F069JJ19 ,  2F069LL02 ,  2F069MM02 ,  2F069NN16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
  • 3次元形状測定方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-146353   Applicant：オリンパス株式会社
  • 3次元形状測定機及びその誤差校正方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-028331   Applicant：キヤノン株式会社
  • 表面形状測定装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-359677   Applicant：株式会社東北テクノアーチ
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM