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J-GLOBAL ID:200903031020059573

磁性薄膜、それを用いた磁気部品およびそれらの製造方法、および電力変換装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石戸 久子 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000133744
Publication number (International publication number):2001284123
Application date: May. 02, 2000
Publication date: Oct. 12, 2001
Summary:
【要約】【課題】 量産性に優れ、簡便に製造でき、厚膜化が可能で、軟磁気特性を有する安価な磁性薄膜とそれを用いた磁気部品およびそれらの製造方法、および電力変換装置を提供する。【解決手段】 シリコン基板上に、ポリイミド膜が10μm厚で形成され、その上にFe微粒子を含んだポリイミド膜からなる20μm厚の磁性薄膜が形成される。この磁性薄膜上にパターニングされたTi/Au膜とTi/Auの接続導体が形成され、その上に10μm厚のポリイミド膜と、高さ35μm、幅90μm、スペース25μmのCuコイルとCuコイル間のスペースを充填したポリイミド層が形成される。その上に10μm厚のポリイミド膜を介して、Fe微粒子を含んだポリイミド膜である20μm厚の磁性薄膜が形成される。この薄膜インダクタは交流抵抗が小さい。
Claim (excerpt):
樹脂が、磁性を有する微粒子を分散して含有していることを特徴とする磁性薄膜。
IPC (3):
H01F 10/16 ,  H01F 10/06 ,  H01F 41/16
FI (3):
H01F 10/16 ,  H01F 10/06 ,  H01F 41/16
F-Term (9):
5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049AA10 ,  5E049AC10 ,  5E049BA14 ,  5E049BA16 ,  5E049EB05 ,  5E049EB06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (24)
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