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J-GLOBAL ID:200903031245461940

蒸着装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 石島 茂男 ,  阿部 英樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002367957
Publication number (International publication number):2004197177
Application date: Dec. 19, 2002
Publication date: Jul. 15, 2004
Summary:
【課題】膜質の良い薄膜を広い領域に形成する。【解決手段】本発明の蒸着装置1は、蒸着源3と磁界形成手段7とを有しており、蒸着源3から放出された微小荷電粒子は、磁界形成手段7によってその飛行方向を曲げられ、基板11に到達する。他方、蒸着源3から飛散する小滴は磁界形成手段7によって曲げられず直進し、また基板11は蒸着源3から直進して飛行する粒子が到達しない位置に配置されるので、基板11には微小荷電粒子のみが到達することになり、膜質の良い薄膜が形成される。磁界形成手段7の出口は入り口よりも広く、微小荷電粒子を運ぶ内部磁力線75は出口側で広がるので、微小荷電粒子は拡散しながら飛行し、広い領域に到達する。従って、基板11表面の広い領域に薄膜が形成される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
真空槽と、前記真空槽内に配置された蒸着源とを有し、 前記蒸着源は棒状のカソード電極と、前記カソード電極の先端に配置された蒸着材料と、前記蒸着材料の側方に配置されたアノード電極と、前記蒸着材料近傍に配置されたトリガ電極を備え、 前記アノード電極と蒸着材料との間に電圧を印加した状態で、前記トリガ電極と前記蒸着材料との間にトリガ放電を発生させると、前記アノード電極と前記蒸着材料との間にアーク放電が誘起され、前記アーク放電により蒸着材料の構成物質からなる微小荷電粒子に放出され、 前記カソード電極内部に直線的に流れたアーク電流が形成する磁界により、前記微小荷電粒子の飛行方向が前記アーク電流と平行な方向に曲げられ、 前記蒸着材料と前記アノード電極との間の空間を放出口としたときに、前記微小荷電粒子が前記放出口から放出されるように構成された蒸着装置であって、 前記放出口よりも大面積の大型基板を保持する基板ホルダと、 前記基板ホルダに保持された状態の前記大型基板の表面近傍と、前記放出口の近傍とを通る磁力線を形成する磁界形成手段とを有し、 前記基板ホルダは、前記放出口から放出された粒子が直進した場合に、前記粒子が到達する位置以外の位置に配置され、 前記磁力線は、前記放出口から放出された前記微小荷電粒子の飛行方向を曲げ、前記大型基板に到達させるように形成され、 前記磁界形成手段は、前記磁力線の密度を、前記放出口の近傍位置よりも、前記基板表面の近傍位置の方を小さくするように構成された蒸着装置。
IPC (2):
C23C14/24 ,  H01L21/285
FI (2):
C23C14/24 F ,  H01L21/285 P
F-Term (8):
4K029BA02 ,  4K029CA01 ,  4K029DB03 ,  4K029DB12 ,  4K029DB15 ,  4K029DB17 ,  4M104BB04 ,  4M104DD34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-108680   Applicant:日本真空技術株式会社
  • 薄膜形成装置および薄膜形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-347430   Applicant:工業技術院長
  • 膜形成装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-177691   Applicant:日新電機株式会社
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