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J-GLOBAL ID:200903031517634822
結晶化金属酸化物薄膜を備えた蛍光体
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小越 勇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008328292
Publication number (International publication number):2009132932
Application date: Dec. 24, 2008
Publication date: Jun. 18, 2009
Summary:
【課題】ガラスやシリコン基板上に結晶化したY2O3を含む薄膜形成を可能にし、性能が高い蛍光体薄膜材料の製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に形成されたY、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、250〜600°Cの温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
基板上に形成された Y、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、25〜600°Cの温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (6):
C09K 11/00
, C01F 17/00
, C09K 11/08
, C09K 11/78
, H01L 21/824
, H01L 27/108
FI (5):
C09K11/00 A
, C01F17/00 B
, C09K11/08 A
, C09K11/78
, H01L27/10 651
F-Term (32):
4G076AA02
, 4G076AA24
, 4G076AB11
, 4G076BA11
, 4G076BA42
, 4G076BA50
, 4G076BC08
, 4G076BD02
, 4G076BG04
, 4G076CA10
, 4G076DA30
, 4H001CA04
, 4H001CA06
, 4H001XA08
, 4H001XA39
, 4H001XA58
, 4H001XA59
, 4H001XA60
, 4H001XA62
, 4H001XA63
, 4H001XA64
, 4H001XA65
, 4H001XA66
, 4H001XA67
, 4H001XA68
, 4H001XA69
, 4H001XA70
, 4H001XA71
, 4H001YA63
, 5F083AD11
, 5F083GA09
, 5F083JA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-302962
Applicant:株式会社アルバック
-
蛍光体の製造方法およびその蛍光体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-032941
Applicant:科学技術振興事業団
-
特許公開2005-150416号公報
-
半導体基板とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-324275
Applicant:旭化成工業株式会社
-
特許2759125号明細書
-
金属酸化物の製造方法及び微細パターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-308644
Applicant:工業技術院長
-
複合酸化物膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-063295
Applicant:株式会社関西新技術研究所
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Cited by examiner (4)
-
薄膜蛍光体基板及びその作製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-316476
Applicant:株式会社アルバック
-
蛍光体薄膜およびその製造方法ならびにELパネル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-326736
Applicant:TDK株式会社, 三浦登
-
ナノ薄膜蛍光体及びその合成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-302962
Applicant:株式会社アルバック
-
発光材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-253253
Applicant:キヤノン株式会社
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Article cited by the Patent:
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