プラズマ密度情報測定方法、および測定に用いられるプロ-ブ、並びにプラズマ密度情報測定装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999058636
Publication number (International publication number)：2000100599
Application date： Mar. 05, 1999
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】プラズマ密度情報を長期間にわたって簡単に測定する。【解決手段】本発明では、測定プローブ12のガラス製チューブ14の先端が測定対象のプラズマPMに接するように測定プローブ12をセットしておく。同軸ケーブル16を介して送られる高周波パワーをループアンテナ15からチューブ壁を介してプラズマPMへ供給するとともに、高周波パワーの反射パワーをループアンテナ15で受信して高周波パワーの反射率の対周波数変化を求出する。求出した反射率周波数特性で反射率が大きく低下するところはプラズマ密度に起因して高周波パワーの強い吸収が起こるピークである。このプラズマ吸収周波数からプラズマ密度を求めることができる。

Claim (excerpt)：

プラズマに高周波パワー(高周波電力)を供給するとともに、プラズマ負荷による高周波パワーの反射または吸収状況を示すパラメータの量的測定を行い、パラメータの測定結果に基づき、プラズマ密度に起因して高周波パワーの強い吸収が起こる周波数、すなわちプラズマ吸収周波数を求出することを特徴とするプラズマ密度情報測定方法。

IPC (4)：

H05H 1/46 , H01L 21/3065 , H05H 1/00 , C23C 14/34

FI (5)：

H05H 1/46 L , H05H 1/46 R , H05H 1/00 A , C23C 14/34 U , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

電子密度の測定方法及びその装置及び電子密度の制御装置及びプラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-212636 Applicant：富士通株式会社
特開平4-256845
特開昭55-156844

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