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J-GLOBAL ID:200903033172385762
発光装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001050583
Publication number (International publication number):2001318627
Application date: Feb. 26, 2001
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 輝度むらの少ない発光装置を提供する。【解決手段】 複数の電流制御用TFTのドレイン電流をId、移動度をμ、単位面積あたりのゲート容量をC0、最大ゲート電圧をVgs(max)、チャネル幅をW、チャネル長をL、しきい値電圧の平均値をVth、しきい値電圧の平均値からのずれをΔVthとし、前記複数のEL素子の発光輝度の差を±n%以下とすると、であり、またはであることを特徴とする発光装置。
Claim (excerpt):
複数の画素を有する発光装置であって、前記複数の画素は、複数のスイッチング用TFTと、複数の電流制御用TFTと、複数のEL素子とを有しており、前記複数のスイッチング用TFTを介して前記複数の電流制御用TFTのゲート電極に入力されるビデオ信号によって、前記EL素子の発光輝度が制御されており、前記複数の電流制御用TFTは、活性層と、前記活性層上にゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上にゲート電極とを有しており、前記活性層はソース領域と、ドレイン領域と、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間に設けられたチャネル形成領域とを有しており、前記複数の電流制御用TFTの前記EL素子の輝度が最大の時のドレイン電流をId、移動度をμ、単位面積あたりのゲート容量をC0、最大ゲート電圧をVgs(max)、チャネル幅をW、チャネル長をL、しきい値電圧の平均値をVth、しきい値電圧の平均値からのずれをΔVthとし、前記複数のEL素子の発光輝度の差を±n%以下とすると、であることを特徴とする発光装置。
IPC (11):
G09F 9/30 365
, G09F 9/30 338
, G09G 3/20 611
, G09G 3/20 624
, G09G 3/20 680
, G09G 3/20
, G09G 3/30
, H01L 29/786
, H05B 33/08
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (11):
G09F 9/30 365 Z
, G09F 9/30 338
, G09G 3/20 611 H
, G09G 3/20 624 B
, G09G 3/20 680 A
, G09G 3/20 680 V
, G09G 3/30 Z
, H05B 33/08
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
, H01L 29/78 618 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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アクティブマトリクス型表示装置の駆動回路および設計方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-107572
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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寄生容量とフィードスルー電圧を低減した薄膜トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-249510
Applicant:ゼロックスコーポレイション
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薄膜ELの駆動装置およびその駆動方法
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Application number:特願平3-256018
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画像表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-168428
Applicant:ティーディーケイ株式会社, 株式会社半導体エネルギー研究所
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有機EL表示装置
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Application number:特願平8-319307
Applicant:ティーディーケイ株式会社
-
アクティブマトリックス発光ダイオード画素構造およびその方法
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Application number:特願平10-311569
Applicant:三菱化学株式会社, サーノフコーポレーション
-
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Application number:特願平7-235412
Applicant:株式会社東芝
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アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-036163
Applicant:ソニー株式会社
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結晶半導体の製造方法および製造装置
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Application number:特願平8-242782
Applicant:株式会社東芝
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多結晶半導体の製造方法
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Application number:特願平10-155889
Applicant:株式会社東芝
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Application number:特願2000-284543
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
カラー表示装置
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Application number:特願平11-283181
Applicant:三洋電機株式会社
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