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J-GLOBAL ID：200903033362941025

プラズマ装置

Inventor：
篠原 己拔

About 篠原 己拔

, 
石井 信雄

About 石井 信雄


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社

, 
日本高周波株式会社

About 日本高周波株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995039822
Publication number (International publication number)：1996115799
Application date： Feb. 28, 1995
Publication date： May. 07, 1996
Summary：
【要約】【目的】 発生するプラズマの分布を可変して各プロセスで最適なものとすることができるプラズマ装置を提供すること。【構成】 チャンバ内の被処理体に対向して上記チャンバの外に配置された第1及び第2の高周波コイルと、高周波電力を出力する高周波電源11と、電力の分配比率を設定する設定手段と、設定手段で設定された分配比率で上記高周波電源から出力される高周波電力を比率を変えて2分配する分配器12と、上記第1の高周波コイルと第2の高周波コイルに供給するそれぞれ2系統の出力の位相差を設定する位相差設定手段19と、この位相差設定手段で設定された位相差となるように上記分配器の出力の位相差を調整する位相調整器13aとから構成される。
Claim (excerpt)：
チャンバ内にプラズマを発生させ、チャンバ内に載置された被処理体にプラズマを用いて所定の処理を施すプラズマ発生装置において、上記チャンバ内の上記被処理体に対向して上記チャンバの外に配置された第1及び第2の高周波コイルと、高周波電力を出力する高周波電源と、電力の分配比率を設定する設定手段と、上記設定手段で設定された分配比率で上記高周波電源から出力される高周波電力を比率を変えて2分配する分配器と、上記第1の高周波コイルと第2の高周波コイルに供給するそれぞれ2系統の出力の位相差を設定する位相差設定手段と、この位相差設定手段で設定された位相差となるように上記分配器の出力の位相差を調整する位相調整器とを具備したことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (3)：
H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065
FI (2)：
H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 N
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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