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J-GLOBAL ID：200903033849914279

露光方法及び露光装置

Inventor：
佐々木 実

About 佐々木 実

, 
羽根 一博

About 羽根 一博

, 
林 宏樹

About 林 宏樹


Applicant, Patent owner：
国立大学法人東北大学

About 国立大学法人東北大学

, 
ウシオ電機株式会社

About ウシオ電機株式会社


Agent (2)： 須田 篤 ,  楠 修二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006273326
Publication number (International publication number)：2008091793
Application date： Oct. 04, 2006
Publication date： Apr. 17, 2008
Summary：
【課題】表面に凹凸のある立体サンプルにパターニングを行うに際して、サンプル内の場所に応じて部分的に、入射角度、偏光方向、露光量などの条件の最適化が可能な露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】表面に凹凸のある立体サンプル1にリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光2を立体サンプル1の基板面の法線方向に対して、10°以上60°以下の範囲で傾斜させて露光する。このとき、立体サンプル1内の場所に応じて部分的に露光量を変えてもよい。また、偏光方向4を制御した入射光2を使用してもよい。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
表面に凹凸のある立体サンプルにリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光をサンプルの基板面の法線方向に対して、10°以上60°以下の範囲で傾斜させて露光することを、特徴とする露光方法。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2)：
H01L21/30 509 ,  G03F7/20 521
F-Term (3)：
5F046BA02 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (12)
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