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J-GLOBAL ID：200903034296114321

X線撮像装置

Inventor： 池田 光志 ,  熱田 昌己 ,  田中 学 ,  金野 晃 ,  鈴木 公平
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998070804
Publication number (International publication number)：1999274444
Application date： Mar. 19, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 TFTのリーク電流を抑制することにより、X線強度を弱くしても十分なダイナミックレンジを確保する。【解決手段】 複数配列された画素からなる検出部に入射したX線を電荷に変換するX線電荷変換膜2と、各画素に対応して設けられX線電荷変換膜2で変換された電荷を蓄積する蓄積容量3と、蓄積容量3に対応して設けられ蓄積容量3に蓄積された電荷を読み出すa-Si薄膜トランジスタ1とを有し、薄膜トランジスタ1のソース領域、ドレイン領域又はチャネル形成領域の少なくとも一つの領域の半導体は所定の不純物を含有しており、この所定の不純物が含有されていないときに比べてバンドギャップが広くなっている。

Claim (excerpt)：

複数配列された画素からなる検出部に入射したX線を電荷に変換する変換手段と、各画素に対応して設けられ前記変換手段で変換された電荷を蓄積する蓄積手段と、この蓄積手段に対応して設けられこの蓄積手段に蓄積された電荷を読み出す薄膜トランジスタからなる読み出し手段とを有し、前記薄膜トランジスタのソース領域、ドレイン領域又はチャネル形成領域の少なくとも一つの領域の半導体は所定の不純物を含有しており該所定の不純物が含有されていないときに比べてバンドギャップが広いものであることを特徴とするX線撮像装置。

IPC (2)：

H01L 27/14 ,  G01T 1/24

FI (2)：

H01L 27/14 K ,  G01T 1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• X線平面検出器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-161977   Applicant：株式会社東芝
• 薄膜イメージセンサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-004140   Applicant：株式会社日立製作所
• 半導体装置作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-020508   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
• 特開平1-057755
  
• 半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-019538   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
• 特開平1-082673
  
• 特開昭63-219171
  
• 電気光学装置および絶縁ゲイト型電界効果半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-024564   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
• 非晶質シリコン薄膜トランジスタ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-016818   Applicant：三星電子株式会社, 張震
• 半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-235436   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
• 薄膜トランジスタおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-066825   Applicant：株式会社東芝
• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-118989   Applicant：富士通株式会社