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J-GLOBAL ID:200903034306593517

蛍光体及び蛍光体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西村 教光
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998077823
Publication number (International publication number):1999279550
Application date: Mar. 25, 1998
Publication date: Oct. 12, 1999
Summary:
【要約】【課題】粉体状のGaN蛍光体とその製造方法を提供する。【解決手段】蛍光体の製造装置1は、真空容器1と、原料ガスの導入管3と、粒子の容器4と、加熱用のランプ6と、容器4を振動させる攪拌機7を有する。原料ガスとして、TMGa(トリメチルGa)、アンモニアガス(NH3 )、DMZn(ジメチル亜鉛)、SiH4 (シラン)を用いる。粒子(粉体)として平均粒径が1μmのAlNを用いた。ランプ加熱により1020°Cに設定し、粒子上に半導体膜を成長させた。AlNの粒子の表面に形成されたGaN:Zn,Siを窒素中で700°Cでアニールし、蛍光体を得た。PLを観察したところ、青色の発光が得られた。また、これをVFD(蛍光表示管)の陽極基板に塗布して陽極電圧30Vで発光させて評価したところ、青色の発光が得られ、その時の輝度は約500cd/m2 であった。
Claim (excerpt):
粒子の表面でヘテロエピタキシャル成長したIII-V族化合物半導体微粒子又は薄膜を有する蛍光体。
IPC (2):
C09K 11/08 ,  C09K 11/62
FI (3):
C09K 11/08 G ,  C09K 11/08 A ,  C09K 11/62
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 蛍光体
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-100215   Applicant:双葉電子工業株式会社
  • 蛍光体及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-043032   Applicant:双葉電子工業株式会社
  • 蛍光体の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-051494   Applicant:双葉電子工業株式会社
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