Pat
J-GLOBAL ID：200903034937859799

試料作成装置および試料作成方法

Inventor：
鹿島 秀夫

About 鹿島 秀夫

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梅村 馨

About 梅村 馨

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富松 聡

About 富松 聡

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小池 英巳

About 小池 英巳

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江花 智

About 江花 智


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999244603
Publication number (International publication number)：2001066231
Application date： Aug. 31, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】試料作成から観察までの作業が簡便で、試料作成が一つの装置内ででき、作成試料の分析装置への受け渡しが容易な試料作成装置を提供する。【解決手段】少なくとも試料片を積載し、直進と回転の2自由度を有するサイドエントリ型試料ステージと、イオンビームの照射光学系と、上記イオンビームの照射によって生じる試料片からの二次粒子検出手段と、上記試料片の一部を分離した摘出試料を試料ホルダに移し変える移送手段から試料作成装置を構成する。
Claim (excerpt)：
集束イオンビームもしくは投射イオンビームのいずれかのイオンビーム照射光学系と、上記イオンビームの照射によって発生する二次粒子を検出する二次粒子検出手段と、上記イオンビームの照射領域にデポジション膜を形成する原料ガスを供給するデポジション用ガス供給源と、試料片の一部を分離した摘出試料を試料ホルダに移し変える移送手段と、サイドエントリ型試料ステージと、上記試料ステージを微動させる試料ステージ微動手段を少なくとも有する試料作成装置において、上記サイドエントリ型試料ステージの試料片を載置する試料設置部を試料ステージの軸方向成分を含む方向に移動可能とする手段と、上記試料設置部を試料ステージの軸方向に垂直な成分を含む回転軸をもって回転可能とする手段を有することを特徴とする試料作成装置。
IPC (12)：
G01N 1/28 ,  G01N 1/00 101 ,  G01N 1/00 102 ,  G01N 1/32 ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/66 ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227
FI (14)：
G01N 1/28 G ,  G01N 1/00 101 B ,  G01N 1/00 102 B ,  G01N 1/32 B ,  G01N 23/04 ,  H01J 37/20 C ,  H01J 37/305 A ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/66 N ,  G01N 23/225 ,  G01N 23/227 ,  G01N 1/28 W ,  G01N 1/28 N ,  H01L 21/302 D
F-Term (50)：
2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001AA10 ,  2G001BA05 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001BA08 ,  2G001BA09 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA05 ,  2G001CA10 ,  2G001GA06 ,  2G001PA01 ,  2G001PA02 ,  2G001QA02 ,  2G001QA10 ,  2G001RA04 ,  2G001RA08 ,  4M106AA20 ,  4M106BA02 ,  4M106BA03 ,  4M106DH25 ,  4M106DH33 ,  4M106DJ02 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ06 ,  5C001AA01 ,  5C001AA02 ,  5C001AA03 ,  5C001AA05 ,  5C001AA06 ,  5C001BB07 ,  5C001CC03 ,  5C001CC04 ,  5C001CC08 ,  5C034BB06 ,  5C034BB07 ,  5F004AA16 ,  5F004BA17 ,  5F004BB01 ,  5F004BB15 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004EA39 ,  5F045EK20 ,  5F045EM02 ,  5F045EM10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (19)
  • 試料作製方法および装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-270800   Applicant：株式会社日立製作所
  • 試料解析方法および装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-268363   Applicant：株式会社日立製作所
  • 試料評価・処理観察システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-154750   Applicant：株式会社日立製作所
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Cited by examiner (32)
  • 試料作製方法および装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-270800   Applicant：株式会社日立製作所
  • 試料解析方法および装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-268363   Applicant：株式会社日立製作所
  • 試料評価・処理観察システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-154750   Applicant：株式会社日立製作所
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