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J-GLOBAL ID:200903035780267970
レーザリペア装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
, 加藤 清志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005215519
Publication number (International publication number):2007029983
Application date: Jul. 26, 2005
Publication date: Feb. 08, 2007
Summary:
【課題】 高精度かつ高速なレーザリペア処理を行うことができるレーザリペア装置を提供する。【解決手段】 CCDカメラ11は、被検査対象となるガラス基板2を撮像して画像情報を生成する。画像処理部12は、画像情報から、欠陥の特徴を示す欠陥特徴情報を生成し、欠陥特徴情報に基づいて、レーザ光を照射する際の照射条件を決定する。リペア用光源14は、画像処理部12から出力された照射条件の情報に基づいて、レーザ光のパワー等を設定し、ガラス基板2の欠陥部をリペアするためのレーザ光rを出射する。DMDユニット16はこのレーザ光を整形する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光源から出射されたレーザ光を被検査対象上の修正対象領域に照射するレーザリペア装置において、
前記被検査対象を撮像して画像情報を生成する撮像手段と、
前記撮像手段によって生成された前記画像情報から、欠陥の特徴を示す欠陥特徴情報を生成し、前記欠陥特徴情報に基づいて、前記レーザ光を照射する際の照射条件を決定する画像処理手段と、
前記画像処理手段によって決定された前記照射条件に基づいて前記レーザ光を整形するレーザ光整形手段と、
整形された前記レーザ光を前記修正対象領域に照射する照射光学系と、
を有することを特徴とするレーザリペア装置。
IPC (3):
B23K 26/00
, B23K 26/03
, B23K 26/073
FI (3):
B23K26/00 P
, B23K26/03
, B23K26/073
F-Term (10):
2H088FA15
, 2H088FA30
, 4E068AA00
, 4E068CA14
, 4E068CA17
, 4E068CB01
, 4E068CC02
, 4E068CD05
, 4E068CD12
, 4E068DA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
レーザリペア装置とフォトマスクの修正方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-156542
Applicant:日本電気株式会社
-
フォトマスク修正方法及びフォトマスク修正装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-160277
Applicant:日本電気株式会社
-
レーザ加工方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-336236
Applicant:三洋電機株式会社
Cited by examiner (2)
-
リペア方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-338486
Applicant:オリンパス株式会社
-
レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-246866
Applicant:株式会社東芝, 東芝電子エンジニアリング株式会社
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