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J-GLOBAL ID:200903093023260402
リペア方法及びその装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 村松 貞男
, 風間 鉄也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003338486
Publication number (International publication number):2005103581
Application date: Sep. 29, 2003
Publication date: Apr. 21, 2005
Summary:
【課題】レーザ光の断面形状を複雑な形状の欠陥部に対応して整形して欠陥部を正確にかつ高速にリペアを行うこと。【解決手段】ガラス基板2上の欠陥部Gを撮像して取得された欠陥画像データDsから欠陥部Gの形状データを抽出し、この形状データに従ってDMDユニット16の各微小ミラー19を高速に角度制御し、これら微小ミラー19で反射したレーザ光rの断面形状を欠陥部Gの形状に略一致させて欠陥部Gに照射する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光源から出力されたレーザ光を、複数縦横方向に配列してなる各微小ミラーを有するデジタルミラーデバイス群に入射し、
このデジタルミラーデバイス群の各微小ミラーをそれぞれ角度制御して、前記各微小ミラーにより前記レーザ光の断面形状をリペア対象の形状に整形し、
この整形された前記レーザ光を前記リペア対象に照射して当該リペア対象をリペアすることを特徴とするリペア方法。
IPC (5):
B23K26/06
, B23K26/00
, B23K26/02
, G02B27/18
, H01L21/027
FI (6):
B23K26/06 E
, B23K26/06 Z
, B23K26/00 P
, B23K26/02 C
, G02B27/18 Z
, H01L21/30 502W
F-Term (8):
4E068AC01
, 4E068CA01
, 4E068CB02
, 4E068CB08
, 4E068CC02
, 4E068CD05
, 4E068CD12
, 4E068DA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (8)
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レーザリペア方法およびレーザリペア装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-004548
Applicant:HOYAフォトニクス株式会社
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レーザ加工方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-336236
Applicant:三洋電機株式会社
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欠陥検出方法及びその装置並びにマスクの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-078416
Applicant:株式会社東芝
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特開平4-288988
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特開平4-190986
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レーザマーキング装置及びレーザマーキング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-017556
Applicant:日本電気株式会社
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レーザマーク装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-032656
Applicant:株式会社キーエンス
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連続パターンの欠陥修正方法および欠陥修正装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-118027
Applicant:エヌティエヌ株式会社
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