高アスペクト比酸化鉄ウィスカー、高アスペクト比酸化チタンウィスカー及びこれらを含む構造並びにその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：入交孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005082789
Publication number (International publication number)：2005306727
Application date： Mar. 22, 2005
Publication date： Nov. 04, 2005
Summary：

【課題】磁気記録用磁性体、マイクロマシン部品等として有用な高アスペクト比酸化鉄ウィスカー及び酸化チタンウィスカー、及びこれらを基板に立設した触媒などとして有用な構造体の提供。【解決手段】鉄以外の金属原子の含有率が10at%以下、直径5nm以上2μm以下でかつアスペクト比が20以上の酸化鉄ウィスカー、チタン以外の金属原子の含有率が10at%以下であって、直径5nm以上20μm以下、かつアスペクト比が5以上の酸化チタンウィスカー、及びこれらのウィスカーを密に立設した基板などの構造体。上記ウィスカーは磁気特性などに優れ、又これらを立設した構造体は、触媒として接触面積が大きく、かつ目詰まりを生じないなどの優れた特性を有し、有用である。これらの酸化物ウィスカーは、鉄系又はチタン系材料を高温化で酸化性雰囲気に接触させて表面の鉄又はチタン原子と接触した酸素を反応させ、酸化物ウィスカーとして成長させる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

鉄系材料からなる基板最表層上に直接高アスペクト比の酸化鉄ウィスカーを立設した基板。

IPC (5)：

C30B29/62 , C01G23/04 , C01G49/02 , C30B1/02 , C30B1/10

FI (6)：

C30B29/62 A , C30B29/62 C , C01G23/04 Z , C01G49/02 Z , C30B1/02 , C30B1/10

F-Term (21)：

4G002AA02 , 4G002AB01 , 4G002AD01 , 4G047CA02 , 4G047CB04 , 4G047CD05 , 4G077AA04 , 4G077BB04 , 4G077BB10 , 4G077CA04 , 4G077CA05 , 4G077CA08 , 4G077EA02 , 4G077EA07 , 4G077ED06 , 4G077HA03 , 4G077HA20 , 4G077JA03 , 4G077JB02 , 4G077JB08 , 4G077JB12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

針状ヘマタイト粒子粉末の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-359299 Applicant：戸田工業株式会社
酸化亜鉛針状結晶及びその製造方法、並びにそれを用いた光電変換装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-124332 Applicant：キヤノン株式会社
針状コバルト被着型マグネタイト粒子粉末及びその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-060036 Applicant：戸田工業株式会社

Show all

Cited by examiner (5)

チタンナノ細線、チタンナノ細線の製造方法、構造体及び電子放出素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-313939 Applicant：キヤノン株式会社
磁気記録媒体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-328634 Applicant：ソニー株式会社
特開昭56-169132

Show all

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

Return to Previous Page