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J-GLOBAL ID：200903036332850768

化学増幅型のポジ型レジスト組成物

Inventor： 上谷 保則 ,  藤島 浩晃 ,  宮 芳子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998012407
Publication number (International publication number)：1999212265
Application date： Jan. 26, 1998
Publication date： Aug. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 樹脂成分と酸発生剤を含有する化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に基板への接着性に優れるものを提供する。【解決手段】 下式(I)及び(II)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 は炭素数1〜4のアルキルを表す)で示される各重合単位を含む樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。ここで用いる樹脂は、(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルと無水マレイン酸をそれぞれ必須の構成モノマーとして共重合を行うことにより、製造できる。また、この樹脂はさらに、ブチロラクトン残基を有する重合単位を含むのが有利である。

Claim (excerpt)：

下式(I)及び(II)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 は炭素数1〜4のアルキルを表す)で示される各重合単位を含む樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-320105   Applicant：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-086093   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-312722   Applicant：富士通株式会社
• 分解性化合物および分解性樹脂並びにこれらを用いた感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-327775   Applicant：三菱電機株式会社