光変調素子及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山崎拓哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004120854
Publication number (International publication number)：2004341507
Application date： Apr. 15, 2004
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：

【課題】良好なシート抵抗値を有する層を意図しない滞留電荷抑制のための層として備える光変調素子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明による光変調素子300は、一対の光路322,323を有する光導波路320が形成された基板310を備えている。基板310及び光導波路320上には、透明バッファ層330が光導波路320を覆うようにして形成され、バッファ層330上には、第一及び第二の変調電極341,342が形成されている。第一及び第二の変調電極341,342は、光変調素子300の周囲の電界に応じて一対の光路322,323内に屈折率変化を生じさせるようにして配置されている。本発明によるバッファ層330は、少なくとも一つの透明絶縁体膜と少なくとも一つの透明導電体膜とを備える積層膜を用いて作成された相互拡散層であり、透明絶縁体膜と透明導電体膜との間には明瞭な境界を有しないものである。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

電気光学効果を有する材料からなる基板と、該基板に形成された光導波路であって少なくとも一対の光路を有する光導波路と、基板及び光導波路上に形成された透明なバッファ層と、バッファ層上に形成された変調電極とを備えた光変調素子であって、前記変調電極は当該光変調素子を取り巻く電界に応じて前記一対の光路における屈折率変化を生じさせるように配置されている光変調素子において、前記バッファ層は、少なくとも一つの透明絶縁体膜と少なくとも一つの透明導電体膜とを備える積層膜を用いて作成された相互拡散層であることを特徴とする光変調素子。

IPC (2)：

G02F1/035 , G01R15/24

FI (2)：

G02F1/035 , G01R15/07 C

F-Term (12)：

2G025AA12 , 2G025AB11 , 2G025AC06 , 2H079AA02 , 2H079AA12 , 2H079BA01 , 2H079CA12 , 2H079DA03 , 2H079EA05 , 2H079EA08 , 2H079EB05 , 2H079KA11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

電界センサ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-149623 Applicant：株式会社トーキン
導波路型光デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-003167 Applicant：株式会社トーキン

Cited by examiner (5)

光導波路機能素子及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-347624 Applicant：住友金属鉱山株式会社
光導波路デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-347156 Applicant：富士通株式会社
特開昭62-073207

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