Pat
J-GLOBAL ID:200903043462633480
導波路型光デバイス
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996003167
Publication number (International publication number):1997197357
Application date: Jan. 11, 1996
Publication date: Jul. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 温度変化に対する出力の安定化が図れ、歩留まりを向上でき、低コストの導波路型光デバイスを提供すること。【解決手段】 Z板LiNbO3 からなる基板1上に、Ti拡散法によってTi拡散層2からなる光導波路を形成した後にパイレックス/ITO混合膜からなる導電性バッファー層4を形成し、この導電性バッファー層4の上にTiからなる電極3を形成したので、光導波路上に発生する応力の再現性の向上が可能となった。また、導電性バッファー層4の線膨張率を、基板1の線膨張率と実質的に等しくなるようにしたので、光導波路上に発生する応力の低減が図れる。
Claim (excerpt):
焦電効果を有する材料からなる基板に形成された導波路上に、主成分として透明導電性酸化物および透明絶縁性酸化物の混合膜からなる透明導電膜を形成し、該透明導電膜上に電極を形成したことを特徴とする導波路型光デバイス。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
光デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-098661
Applicant:沖電気工業株式会社
-
光導波路デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-347156
Applicant:富士通株式会社
-
特開平3-192206
-
希土類イオン・窒素添加酸化膜の製造方法及び光導波路の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-272939
Applicant:日立電線株式会社, 日本電信電話株式会社
-
光導波膜及び光導波路の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-163006
Applicant:日立電線株式会社
-
特開昭61-198133
Show all
Return to Previous Page