Pat
J-GLOBAL ID:200903041365176489
金属膜パターンおよびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
前田 弘 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002009400
Publication number (International publication number):2003213436
Application date: Jan. 18, 2002
Publication date: Jul. 30, 2003
Summary:
【要約】【課題】 表面が平滑な基板上に対しても、簡単なプロセスで、必要な領域だけに、密着性の優れた金属膜パターンを形成する。【解決手段】 基板上に、第1触媒を含有する感光膜を形成する(第1の工程)。この感光膜を所定パターンに形成する(第2の工程)。パターニングされた第1触媒上に、湿式成膜技術による金属酸化膜(ZnO膜など)を選択的に形成する(第3の工程)。金属酸化膜上に、無電解めっきの触媒となる層(第2触媒層)を形成する(第4の工程)。基板を無電解めっき浴に浸漬して、金属酸化膜上に金属膜を析出させる(第5の工程)。
Claim (excerpt):
表面が平滑な基板上に、第1触媒層と、前記第1触媒層上の全領域または一部の領域に形成された、Ra=10nm以上500nm以下の範囲で凹凸の表面を有する金属酸化膜と、前記金属酸化膜上に形成された無電解めっき金属膜とを有する、金属膜パターン。
IPC (9):
C23C 18/18
, C23C 18/12
, C23C 18/32
, C23C 18/38
, C23C 18/42
, C23C 20/06
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1368
, H01L 21/288
FI (9):
C23C 18/18
, C23C 18/12
, C23C 18/32
, C23C 18/38
, C23C 18/42
, C23C 20/06
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1368
, H01L 21/288 E
F-Term (38):
2H088FA18
, 2H088HA08
, 2H088MA20
, 2H092JA24
, 2H092KB04
, 2H092MA11
, 2H092MA15
, 2H092MA23
, 2H092NA27
, 4K022AA05
, 4K022BA01
, 4K022BA03
, 4K022BA08
, 4K022BA14
, 4K022BA31
, 4K022BA36
, 4K022CA06
, 4K022CA07
, 4K022DA03
, 4K022DB03
, 4M104AA10
, 4M104BB02
, 4M104BB16
, 4M104BB17
, 4M104BB36
, 4M104CC01
, 4M104CC05
, 4M104DD22
, 4M104DD31
, 4M104DD51
, 4M104DD53
, 4M104DD68
, 4M104EE03
, 4M104EE17
, 4M104FF08
, 4M104FF13
, 4M104GG09
, 4M104HH08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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