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J-GLOBAL ID:200903037284504484
多孔体及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 藤井 淳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005096257
Publication number (International publication number):2005298324
Application date: Mar. 29, 2005
Publication date: Oct. 27, 2005
Summary:
【課題】本発明は、より効率的な光触媒反応又は光電極反応が起こる酸化物半導体を含む多孔体を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、より効率的な光触媒反応又は光電極反応が起こる酸化物半導体を含む多孔体を提供することを目的とする。本発明は、網目構造骨格を有する多孔体であって、1)前記骨格が内部と表面部から構成され、2)前記内部が実質的にカーボン材料からなり、3)前記表面部の一部又は全部が酸化物半導体である多孔体とその製造方法に係る。【選択図】なし
Claim (excerpt):
網目構造骨格を有する多孔体であって、1)前記骨格が内部と表面部から構成され、2)前記内部が実質的にカーボン材料からなり、3)前記表面部の一部又は全部が酸化物半導体である多孔体。
IPC (7):
C01B31/02
, B01J35/02
, C01G23/04
, C04B38/00
, H01L31/04
, H01M4/80
, H01M14/00
FI (7):
C01B31/02 101Z
, B01J35/02 J
, C01G23/04 Z
, C04B38/00 303Z
, H01M4/80 B
, H01M14/00 P
, H01L31/04 Z
F-Term (63):
4G019FA04
, 4G019FA11
, 4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD04
, 4G146AB10
, 4G146AC07A
, 4G146AC07B
, 4G146AC08A
, 4G146AC08B
, 4G146AC22B
, 4G146AD11
, 4G146AD15
, 4G146AD17
, 4G146AD23
, 4G146AD35
, 4G146BA13
, 4G146BA41
, 4G146BA42
, 4G146BB07
, 4G146BB10
, 4G146BB15
, 4G146BC02
, 4G146BC03
, 4G146BC23
, 4G146BC24
, 4G146CB19
, 4G146CB20
, 4G146CB23
, 4G146CB34
, 4G169AA08
, 4G169AA11
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA48A
, 5F051AA14
, 5F051CB29
, 5F051CB30
, 5H017AA00
, 5H017BB01
, 5H017BB04
, 5H017BB10
, 5H017BB13
, 5H017BB14
, 5H017BB16
, 5H017BB17
, 5H017CC27
, 5H017DD03
, 5H017EE01
, 5H017EE06
, 5H017EE08
, 5H017HH01
, 5H032AA06
, 5H032AS16
, 5H032BB02
, 5H032BB05
, 5H032BB07
, 5H032BB10
, 5H032CC11
, 5H032EE01
, 5H032EE02
, 5H032HH01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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酸化物半導体電極及びそれを用いた色素増感型太陽電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-245979
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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多孔質酸化チタン薄膜及びそれを用いた光電変換素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-124562
Applicant:株式会社リコー
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WO98/35267
-
多孔質金属酸化物半導体薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-111305
Applicant:学校法人慶應義塾
-
特開平3-093634号公報
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ゾルゲル法による薄膜の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-178353
Applicant:住友電気工業株式会社
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特開昭63-280748号公報
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Cited by examiner (5)
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二酸化チタン結晶配向膜を有する材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-259158
Applicant:恒成株式会社, 斎藤秀俊
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多孔体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-298893
Applicant:松下電器産業株式会社
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光触媒フィルター及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-215050
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
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多孔質体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-256233
Applicant:松下電器産業株式会社
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触媒担体
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-500562
Applicant:ノートンケミカルプロセスプロダクツコーポレイション
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