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J-GLOBAL ID:200903037329713020
欠陥検査方法及びその装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001330113
Publication number (International publication number):2003130808
Application date: Oct. 29, 2001
Publication date: May. 08, 2003
Summary:
【要約】【課題】照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。【解決手段】上記した課題を解決するために、DUVからVUV領域の複数の波長のレーザ光を照明する構成とした。これにより、レーザ光の時間的・空間的コヒーレンスも低減させた。また、VUV光とDUV光とを照明した場合に発生する、色収差を補正するために、それぞれの波長の光を同軸照明とし、補正しきれない色収差は、検出光路を波長に対応した2系統に分岐し、それぞれの波長の像面にイメージセンサを配置して検出するようにした。これにより、解像度が高く、欠陥検査上のノイズも低減した画像を検出することを可能にした。
Claim (excerpt):
パターンが形成された試料に偏光光を照射し、該照射による前記試料からの反射光のうち正反射光の光量を低減した光学像を形成し、該形成した光学像を検出し、該検出して得た信号を用いて前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N 21/956 A
, H01L 21/66 J
F-Term (24):
2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051AB20
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051BB09
, 2G051BB20
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CC12
, 2G051EC02
, 2G051ED04
, 2G051ED08
, 4M106AA01
, 4M106BA06
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106DB08
, 4M106DB09
, 4M106DB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-206866
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭62-073141
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特開昭62-073141
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検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-118255
Applicant:株式会社ニコン
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欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-231279
Applicant:株式会社ニコン
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外観検査方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-131408
Applicant:株式会社東京精密
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異物検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-109215
Applicant:三菱電機株式会社
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特開平1-187437
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特開昭62-073141
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特開平1-187437
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特開昭62-073141
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特開平1-187437
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